[发明专利]无源对准方法及其在微投影装置中的应用有效
| 申请号： | 200980159186.2 | 申请日： | 2009-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN102439509A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | F·克查纳;L·基尔切尔 | 申请（专利权）人： | 雷模特斯有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;B81C3/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高为;王忠忠 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种光学微投影系统，包括如下组件：至少一个光源(401)；至少一个基于MEMS技术的反射镜(200)，用于偏移来自所述光源的光；至少一个分光镜(403)；至少一个波片(400)；其中，至少两个所述组件的相互对准通过所述组件的参考接触面(500)之间相互直接接触提供。所提出的结构使得可以避免使用动态光学组装方法并最小化系统中的光损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 无源 对准 方法 及其 投影 装置 中的 应用 | ||
【主权项】：
一种光学微投影系统，包括如下组件：至少一个光源(401)至少一个基于MEMS技术的反射镜(202)，用于偏移来自所述光源的光；至少一个分光镜(403)；至少一个波片(400)，用于改变激光光束的偏振；其中，至少两个所述组件的相互对准是所述组件的接触面(500)之间的相互直接接触提供的。
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