[发明专利]用于电弧蒸镀源的可修改的磁铁配置有效
| 申请号： | 200980156427.8 | 申请日： | 2009-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102308359A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | S.克拉斯尼策尔;J.哈格曼;O.格斯特尔 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康贸易股份公司（特吕巴赫） |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张涛;卢江 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种用于在工件上产生硬材料层的电弧蒸镀源。本发明包含电弧蒸镀源，其由至少一个电磁线圈以及可相对于靶表面移动的永久磁铁装置组成。该蒸镀源可以与氧化物层、氮化物层或金属层的不同要求匹配。在待蒸镀的靶的寿命期间的速率下降可以通过永久磁铁与靶正面之间匹配的距离来保持恒定或调节。可以在层粗糙度和速率之间调节出一种折衷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电弧 蒸镀源 修改 磁铁 配置 | ||
【主权项】：
一种电弧蒸镀源，具有设置在靶上的磁场装置以用于在靶表面以及靶表面上方产生磁场，其中该磁场装置包括边缘永久磁铁和至少一个设置在所述靶后方的环状线圈，该环状线圈的通过绕组限定的内直径优选小于或等于靶的直径，在任何情况下都不显著大于靶的直径，其特征在于，所述边缘永久磁铁能基本上垂直于靶表面地远离靶移动，并且该边缘永久磁铁在靶表面上的投影与环状线圈在靶表面上的投影相比离靶表面的中心更远。
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