[发明专利]汽相沉积系统有效
| 申请号： | 200980140045.6 | 申请日： | 2009-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN102177274A | 公开（公告）日： | 2011-09-07 |
| 发明（设计）人： | G·本韦努蒂;E·阿拉里瓦格纳;C·派特 | 申请（专利权）人： | ABCD技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/48 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 武晨燕;张颖玲 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种用于对多种种类进行真空沉积的喷嘴，所述喷嘴被分成多个四分部，每个四分部包含至少一个用于所述种类的出口，所述四分部中的每一个定义位于下方的隔间的壁，该隔间包含至少一个种类，其中两个相邻的隔间包含不同种类。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 系统 | ||
【主权项】：
一种用于对多种种类进行真空沉积的喷嘴：所述喷嘴被分成多个四分部，每个四分部包含至少一个用于所述种类的出口，所述四分部中的每一个定义位于下方的隔间的壁，该隔间包含至少一个种类，其中两个相邻的隔间包含不同种类。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
