[发明专利]研磨头及研磨装置有效
申请号: | 200980132819.0 | 申请日: | 2009-08-07 |
公开(公告)号: | CN102131617A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 桝村寿;桥本浩昌;森田幸治;岸田敬实;荒川悟 | 申请(专利权)人: | 信越半导体股份有限公司;不二越机械工业株式会社 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B37/00;H01L21/304 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 郭晓东;马少东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是一种研磨头,至少具备:环状刚性环;橡胶膜,其被以均匀的张力粘接在该刚性环;中板,其与刚性环结合,并与橡胶膜和刚性环共同形成空间部;环状模板,其在橡胶膜的底面部的周边部配置成与刚性环同心状;压力调整机构,其使空间部的压力变化;其特征在于:空间部被与刚性环同心的至少1个环状墙隔开,而形成多个密闭空间,且被上述环状墙隔开的多个密闭空间之中的内侧的至少1个密闭空间的外径以成为上述工件的平坦度保证区域的直径以上的方式来形成,而且压力调整机构分别独立地调整多个密闭空间内的压力。 | ||
搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种研磨头,至少具备:环状的刚性环;橡胶膜,其被以均匀的张力粘接在该刚性环上;中板,其与上述刚性环结合,并与上述橡胶膜和上述刚性环共同形成空间部;环状模板,其在上述橡胶膜的底面部的周边部配置成与上述刚性环同心状;压力调整机构,其使上述空间部的压力变化;在上述橡胶膜的底面部上保持工件的背面,且利用上述模板来保持上述工件的边缘部,使该工件的表面在已粘贴于转盘上的研磨布上作接触滑动来进行研磨,其特征在于,上述空间部被与上述刚性环同心的至少1个环状墙隔开,而形成多个密闭空间,且被上述环状墙隔开的多个密闭空间之中的内侧的至少1个密闭空间的外径以成为上述工件的平坦度保证区域的直径以上的方式来形成,而且上述压力调整机构分别独立地调整上述多个密闭空间内的压力。
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