[发明专利]缓释性制剂组合物的制造方法有效
| 申请号： | 200980126552.4 | 申请日： | 2009-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN102088844A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 远藤善寿;中村喜朗;福原慎也 | 申请（专利权）人： | 日本曹达株式会社 |
| 主分类号： | A01N25/10 | 分类号： | A01N25/10;A01N47/40;A01P7/02;A01P7/04 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种缓释性制剂组合物的制造方法，其特征在于：包括使用喷雾干燥器，控制喷雾干燥器的出口温度，将含有(1)活性成分、(2)树脂成分和(3)溶剂的组合物进行喷雾干燥的工序，喷雾干燥后的组合物中的溶剂含有量为5质量％以下，并且，上述喷雾干燥后的组合物实质上不含有上述活性成分的分解物。 | ||
| 搜索关键词： | 缓释性 制剂 组合 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种缓释性制剂组合物的制造方法，其特征在于：包括使用喷雾干燥器，控制喷雾干燥器的出口温度，将含有(1)活性成分、(2)树脂成分和(3)溶剂的组合物进行喷雾干燥的工序，喷雾干燥后的组合物中的溶剂含量为5质量％以下，并且，所述喷雾干燥后的组合物实质上不含有所述活性成分的分解物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本曹达株式会社，未经日本曹达株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980126552.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于集成电路的基于模型的设计及布局的方法及系统
- 下一篇：磁式绝对编码器
