[发明专利]外观修改设备、制造这种设备的方法和操作这种设备的方法无效

专利信息
申请号: 200980122851.0 申请日: 2009-06-09
公开(公告)号: CN102067028A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: A.R.M.弗舒伦;G.奥弗斯吕詹;T.C.克拉恩;S.J.鲁森达尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167;G09G3/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李亚非;刘鹏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了制造用于修改由其覆盖的表面的视觉外观的外观修改设备(2,6,9;10;30)的方法。该方法包括步骤:提供第一衬底(11),该第一衬底在其第一侧上具有由电介质层(21)覆盖的第一电极层(17);提供第二衬底(12),该第二衬底与第一衬底(11)的第一侧相对;在第一衬底(11)和第二衬底(12)之间设置隔离结构(13)以形成多个单元(15,16;31),使得由每个单元占用的区域包括第一电极层(17)的部分;提供至少通过电介质层(21)与第一电极层(17)隔开的第二电极(18),在每个单元(15,16;31)中在电介质层(21)内形成凹口;以及在每个单元(15,16;31)中提供具有散布于其中的多个颗粒(20)的光学透明流体(19)。
搜索关键词: 外观 修改 设备 制造 这种 方法 操作
【主权项】:
一种制造用于修改由其覆盖的表面的视觉外观的外观修改设备(2,6,9;10;30)的方法,包括步骤:‑ 提供第一衬底(11),该第一衬底在其第一侧上具有由电介质层(21)覆盖的第一电极层(17);‑ 提供第二衬底(12),该第二衬底与第一衬底(11)的第一侧相对;‑ 在第一衬底(11)和第二衬底(12)之间设置隔离结构(13)以形成多个单元(15,16;31),使得由每个单元占用的区域包括第一电极层(17)的部分;‑ 提供至少通过电介质层(21)与第一电极层(17)隔开的第二电极(18),‑ 在每个单元(15,16;31)中在电介质层(21)内形成凹口;以及‑ 在每个单元(15,16;31)中提供具有散布于其中的多个颗粒(20)的光学透明流体(19)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980122851.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top