[发明专利]外观修改设备、制造这种设备的方法和操作这种设备的方法无效
申请号: | 200980122851.0 | 申请日: | 2009-06-09 |
公开(公告)号: | CN102067028A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | A.R.M.弗舒伦;G.奥弗斯吕詹;T.C.克拉恩;S.J.鲁森达尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/167 | 分类号: | G02F1/167;G09G3/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李亚非;刘鹏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 公开了制造用于修改由其覆盖的表面的视觉外观的外观修改设备(2,6,9;10;30)的方法。该方法包括步骤:提供第一衬底(11),该第一衬底在其第一侧上具有由电介质层(21)覆盖的第一电极层(17);提供第二衬底(12),该第二衬底与第一衬底(11)的第一侧相对;在第一衬底(11)和第二衬底(12)之间设置隔离结构(13)以形成多个单元(15,16;31),使得由每个单元占用的区域包括第一电极层(17)的部分;提供至少通过电介质层(21)与第一电极层(17)隔开的第二电极(18),在每个单元(15,16;31)中在电介质层(21)内形成凹口;以及在每个单元(15,16;31)中提供具有散布于其中的多个颗粒(20)的光学透明流体(19)。 | ||
搜索关键词: | 外观 修改 设备 制造 这种 方法 操作 | ||
【主权项】:
一种制造用于修改由其覆盖的表面的视觉外观的外观修改设备(2,6,9;10;30)的方法,包括步骤:‑ 提供第一衬底(11),该第一衬底在其第一侧上具有由电介质层(21)覆盖的第一电极层(17);‑ 提供第二衬底(12),该第二衬底与第一衬底(11)的第一侧相对;‑ 在第一衬底(11)和第二衬底(12)之间设置隔离结构(13)以形成多个单元(15,16;31),使得由每个单元占用的区域包括第一电极层(17)的部分;‑ 提供至少通过电介质层(21)与第一电极层(17)隔开的第二电极(18),‑ 在每个单元(15,16;31)中在电介质层(21)内形成凹口;以及‑ 在每个单元(15,16;31)中提供具有散布于其中的多个颗粒(20)的光学透明流体(19)。
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