[发明专利]外观修改设备、制造这种设备的方法和操作这种设备的方法

权利要求书

1. 一种制造用于修改由其覆盖的表面的视觉外观的外观修改设备（2，6，9；10；30）的方法，包括步骤：

- 提供第一衬底（11），该第一衬底在其第一侧上具有由电介质层（21）覆盖的第一电极层（17）；

- 提供第二衬底（12），该第二衬底与第一衬底（11）的第一侧相对；

- 在第一衬底（11）和第二衬底（12）之间设置隔离结构（13）以形成多个单元（15，16；31），使得由每个单元占用的区域包括第一电极层（17）的部分；

- 提供至少通过电介质层（21）与第一电极层（17）隔开的第二电极（18），

- 在每个单元（15，16；31）中在电介质层（21）内形成凹口；以及

- 在每个单元（15，16；31）中提供具有散布于其中的多个颗粒（20）的光学透明流体（19）。

2. 依照权利要求1的方法，其中隔离结构（13）在第一衬底（11）的第一侧上提供，并且形成凹口的步骤包括局部地移除电介质层21的部分。

3. 依照权利要求2的方法，其中在电介质层（21）内形成凹口的步骤包括步骤：

- 将第一材料移除束（91a）定向到这样的方向，使得隔离结构（13）阻止第一材料移除束（91a）撞击单元（15，16；31）的第一段（92a）之外的电介质层（21）；

- 将第二材料移除束（91b）定向到这样的方向，使得隔离结构（13）阻止第二材料移除束（91b）撞击单元（15，16；31）的第二段（92b）之外的电介质层（21），该第二段与第一段（92a）不同并且在与电介质层（21）的所述部分相应的单元区域中与第一段（92a）重叠。

4. 依照前面的权利要求中任何一项的方法，其中第二电极（17）预先在第二衬底（12）上形成，并且提供第二光学透明衬底（12）的步骤包括步骤：

- 调整第二电极（18）以便相对于电介质层（21）中的凹口侧向偏移；以及

- 将第二衬底（12）附接到第一衬底（11）。

5. 一种外观修改设备（10；30），用于修改由其覆盖的表面的外观，包括：

- 第一衬底（11），其具有设置在其第一侧上的第一电极层（17），该第一电极层（17）被电介质层（21）覆盖；

- 第二衬底（12），其与第一衬底（11）的第一侧相对地设置；

- 隔离结构（13），其将第一衬底（11）和第二衬底（12）隔开，使得第一衬底（11）和第二衬底（12）之间的空间被划分成多个单元（15，16；31）；

- 在每个单元（15，16；31）中，具有其中散布的多个颗粒（20）的光学透明流体（19），这些颗粒（20）可通过施加电场而在流体（19）中运动；以及

- 至少通过电介质层（21）与第一电极（17）层隔开的第二电极（18），

- 其中在每个单元（15，16；31）中，电介质层（21）具有在其中形成的凹口；并且

- 其中每个单元（15，16；31）内的颗粒（20）的分布可通过在所述电极（17，18）之间施加电压而被控制从第一散布状态到其中邻近电介质层（21）中的凹口和第二电极（18）中的至少一个地集中颗粒（20）的第二状态。

6. 依照权利要求5的外观修改设备，其中第二电极（18）设置在第一衬底（11）第一侧上的电介质层（21）上。

7. 依照权利要求5或6的外观修改设备，其中隔离结构（13）的至少一部分是导电的并且形成第二电极（18）。

8. 依照权利要求5的外观修改设备，其中第二电极（18）预先在第二衬底（12）上形成。

9. 依照权利要求5-8中任何一项的外观修改设备（10；30），其中在每个单元（15，16；31）中，电介质层（21）具有在其中形成的至少两个凹口。