[发明专利]适应性纳米形貌雕刻无效
| 申请号： | 200980122208.8 | 申请日： | 2009-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN102089708A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | A·帕伽;S·V·斯利尼瓦森 | 申请（专利权）人： | 得克萨斯州大学系统董事会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 项丹;周承泽 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 可以采用适应性纳米形貌雕刻来改变纳米形貌和粗糙度，同时不改变表面的标称形状。一般来说，适应性纳米形貌雕刻提供具有所需形状特征的表面。绘制第一表面的形貌，以提供密度图。对该密度图进行评价，以提供用于在该第一表面上分配可聚合材料的滴落图案。对可聚合材料进行固结和蚀刻，以提供具有所需形状特征的第二表面。 | ||
| 搜索关键词： | 适应性 纳米 形貌 雕刻 | ||
【主权项】：
一种采用压印光刻系统形成具有所需形状特征的表面的方法，其包括：确定第一表面的纳米形貌；确定第二表面的所需形状特征；评价第一表面的纳米形貌和第二表面的所需形状特征以提供滴落图案；依照所述滴落图案在模板和第一表面之间沉积可聚合材料；使模板与可聚合材料相接触；使可聚合材料固结；蚀刻所述可聚合材料以提供具有所需形状特征的第二表面。
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