[发明专利]一种金属光学灰度掩模及其制作方法有效
| 申请号： | 200980111157.9 | 申请日： | 2009-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN101981500A | 公开（公告）日： | 2011-02-23 |
| 发明（设计）人： | 郭传飞;刘前;曹四海;王永胜 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 100190 中国*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种金属光学灰度掩模包括在透明衬底上沉积一层金属薄膜，在金属薄膜表面进行激光直写，形成连续的、列阵式或任意图形的不同透明度的图形，其灰度值范围为3.0-0.05D，金属薄膜的厚度为5-100纳米。光学灰度掩模的制作方法包括采用常规半导体清洗工艺将所选择的透明衬底清洗干净，再在透明衬底上沉积金属薄膜，在金属薄膜上再进行激光直写，形成连续的、列阵式或任意图形的不同透明度的图形。这种灰度掩模价格低廉，防静电性能良好，分辨率能超过光学衍射极限。这种制备方法简单，有较宽的适用波段，用于微光学元件和微机电系统的大规模制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 光学 灰度 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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