[发明专利]固态前体升华器有效
申请号: | 200980107399.0 | 申请日: | 2009-01-12 |
公开(公告)号: | CN101960044A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 许敏第;T·肖贝 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 吴鹏;牛晓玲 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 一种用于在升华器中保持固态前体的装置和方法,以使固态前体能蒸发用于使载气饱和。该装置可包括形成内部通道和外部通道的交替的盘状件或搁架,以及用于流体联接所述通道的在各盘状件之间的空间,以便形成穿过升华器的曲折迂回的流体流动路径,用来优化固体蒸汽饱和作用。该方法可包括将载气引导入升华室,在外部通道中绕过第一搁架,在所述空间中越过第一搁架上方,在内部通道中绕过第二搁架,并退出升华室。 | ||
搜索关键词: | 固态 升华 | ||
【主权项】:
一种用于使固态前体蒸发的装置,该装置包括:容器,该容器包括可密封的开口、流体入口、流体出口和内部尺寸;至少一个第一搁架,该第一搁架具有小于容器内部尺寸的外部尺寸,以形成外部通道,并包括具有外部尺寸的内部支承件;至少一个第二搁架,该第二搁架包括外部支承件和开口,所述外部支承件定位于容器内部尺寸处,所述开口大于第一搁架内部支承件的外部尺寸;以及其中,第一搁架构造成与第二搁架形成重叠的垂直堆垛,以定位在容器内,并且通过外部通道在第一搁架和第二搁架之间建立流体流动路径。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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