[实用新型]用于等离子体处理室的内部组件及气体喷头组件有效
| 申请号： | 200920076954.5 | 申请日： | 2009-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN201503845U | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 徐朝阳;吴狄;荒见淳一;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/04;G05D23/00;H01J37/16;B05B9/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁;郑暄 |
| 地址： | 201201 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于等离子体处理室的内部组件，包括具有第一连接表面的第一处理室部件、涂覆于第一连接表面上的聚四氟乙烯涂层、以及第二处理室部件，其具有与聚四氟乙烯涂层相接触的第二连接表面。本实用新型还提供了包括温度控制元件和气体喷头的气体喷头组件，温度控制元件包括加热板和涂覆于加热板上的聚四氟乙烯涂层，气体喷头具有接触聚四氟乙烯涂层的第二连接表面。本实用新型的内部组件消除了在等离子体处理过程中第一处理室部件与第二处理室部件之间因热膨胀产生位移而引起的颗粒污染的问题，并且通过聚四氟乙烯涂层提供了更光滑的接触面，提供由于温度的变化导致的两等离子体处理室部件在横向移动上的灵活性，提高了加工效率，降低了使用成本，也提高了等离子体处理室的稳定性，适合于大规模工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 内部 组件 气体 喷头 | ||
【主权项】：
一种用于等离子体处理室的内部组件，其特征在于，包括：第一处理室部件，其具有第一连接表面；第二处理室部件，其与所述第一处理室部件相连接，并具有与所述第一连接表面相邻的第二连接表面，所述第一处理室部件与第二处理室部件具有不同的热膨胀系数；以及聚四氟乙烯涂层，其涂覆于所述第一处理室部件的第一连接表面，并且与所述第二处理室部件的第二连接表面相接触。
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