[实用新型]单晶抛光硅片背损伤装置移动托架

摘要

本实用新型涉及一种单晶抛光硅片背损伤装置移动托架，包括托架主体，其中托架主体周边设置有托架固定部件，托架主体中部设置有均匀分布且相互连接的数个托架支撑部，相邻托架支撑部之间形成有镂空的托架孔，托架支撑部和托架孔共同组成与硅片外形相对应的下凹区域。采用该种结构的单晶抛光硅片背损伤装置移动托架，能够有效降低硅片碎片率，并有效避免了硅片和金属接触所造成的金属污染，能够适应不同研磨剂颗粒大小、喷射压力和移动托架不同移动速度情况，满足了硅片表面研磨剂的充分流动和托盘下盘面清洗的需要，加工硅片效率高，稳定性好，降低了生产成本，结构简单耐用，可操作性强，性能稳定可靠，适用范围较广，产生了好的经济和社会效益。

主权项

1、一种单晶抛光硅片背损伤装置移动托架，包括托架主体，其特征在于，所述的托架主体周边设置有托架固定部件，且该托架主体中部设置有均匀分布且相互连接的数个托架支撑部，所述的相邻的托架支撑部之间形成有镂空的托架孔，所述的托架支撑部和托架孔共同组成与硅片外形相对应的下凹区域。