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[发明专利]小程序的检测方法和系统-CN202310907087.X在审
发明人：吉鹏程;徐成敏;许永斌;陈晨;岳珐宇;钟佳慧;冒飞;易文峰;陈继扬;赵强;孙萌萌 -专利权人：支付宝（杭州）信息技术有限公司
申请日： 2023-07-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G06F9/445 文献下载
摘要：本公开提供一种小程序的检测方法和系统，包括：获取待检测小程序的待检测路径，其中，待检测路径用于表征待检测小程序的实际服务供给对应的用户旅程地图的节点路径，将预设的定义路径与待检测路径进行一致性匹配处理，得到匹配结果，其中，定义路径用于表征待检测小程序的需求服务供给对应的用户旅程地图的节点路径，匹配结果用于表征待检测小程序的实际服务供给是否完整，以准确确定待检测路径包括的服务节点是否缺失或完整，以提高对待检测小程序的检测的有效性和可靠性。
程序检测方法系统

[发明专利]一种风险控制策略配置方法、装置及设备-CN202310890435.7在审
发明人：岳珐宇;何楚;吉鹏程;钟佳慧;易文峰;冒飞;孙萌萌;赵强 -专利权人：支付宝（杭州）信息技术有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G06Q10/0635 文献下载
摘要：本说明书实施例中公开了一种风险控制策略配置方法、装置及设备。该方案可以包括：通过获取用于反映目标业务涉及的各个业务节点之间的关联关系的相关节点信息，并获取针对各个所述业务节点配置的节点风险控制策略数据，以及，针对多个所述业务节点之间配置的关联风险控制策略数据；从而能够根据获取到的所述相关节点信息、所述节点风险控制策略数据以及所述关联风险控制策略数据，确定出目标业务涉及的较为完整全面的风险控制策略集合。
一种风险控制策略配置方法装置设备

[实用新型]一种泥浆比重计-CN202122481129.7有效
发明人：杨帆;冒飞;徐明斯;冯静;叶成威 -专利权人：杭州亚太建设监理咨询有限公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N9/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种泥浆比重计，其包括杠杆、固定于杠杆一端的泥浆杯、固定于杠杆另一端的平衡圆柱、设置于泥浆杯上的杯盖、沿杠杆长度方向滑动配合的游码和用于支撑杠杆的底座；泥浆杯底部开口设置，且泥浆杯的底部设有底盖，底盖的一端与泥浆杯底部转动连接，底盖的另一端通过螺栓固定于泥浆杯底部。底盖朝向泥浆杯的侧面上设有圆盘，圆盘插接于泥浆杯底部，且圆盘顶部边缘倒角设置；底盖上还设有密封环，密封环套接于圆盘外部。本申请具有便于清洗泥浆杯的效果。
一种泥浆比重计

[实用新型]一种泥浆比重计-CN201821518933.X有效
发明人：郭彩军;冯静;冒飞 -专利权人：杭州亚太建设监理咨询有限公司
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： G01N9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及泥浆比重检测设备技术领域，特别涉及一种泥浆比重计，为解决现有技术中泥浆杯底部不易擦拭从而造成泥浆比重测量误差较大的问题，本实用新型包括底座、连接于底座上的支撑杆、转动连接于支撑杆且具有刻度的杠杆、连接于杠杆一端的泥浆杯、盖设于泥浆杯上的泥浆盖、连接于杠杆另一端的平衡筒、以及滑动连接于杠杆的游码，其技术方案要点在于还包括擦拭装置，擦拭装置包括卡接于支撑杆用于盛装水的清洗盘、滑动连接于支撑杆且套设于泥浆杯外的擦拭件、以及设置于底座上用于与清洗盘和擦拭件平衡的配重块，通过滑动擦拭件即可实现泥浆杯位于杠杆底部外壁的清洁，进而达到降低泥浆比重测量误差的目的。
泥浆杯支撑杆泥浆比重擦拭件杠杆底座本实用新型泥浆比重计擦拭装置滑动连接清洗盘测量技术方案要点底部外壁杠杆一端检测设备转动连接滑动配重块平衡筒泥浆盖设卡接游码擦拭盛装清洁平衡

[实用新型]一种泥浆粘度计-CN201821520938.6有效
发明人：冒飞;芦丰;姜志慧 -专利权人：杭州亚太建设监理咨询有限公司
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： G01N11/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及粘度测量设备技术领域，它涉及一种泥浆粘度计，包括底座、垂直设置于底座上的立柱、滑动连接于立柱上的检测电机、设于检测电机输出轴上用于检测烧杯内液体粘度的转子，底座的上表面由底座的中心向外开设有多组滑槽，滑槽内滑动连接有用于夹持烧杯的抵接板；底座上设置有用于驱动多组抵接板朝向底座中心方向滑动的驱动机构。驱动机构使滑槽内的抵接板朝向底座中心方向滑动并最终与底座上的烧杯抵接，对烧杯进行夹持和固定，可以降低烧杯在检测时发生晃动幅度，提高泥浆粘度计测量的结果。此外，还可以将烧杯固定夹持于底座的中心处，使转子伸入烧杯内的泥浆时，刚好位于泥浆的中心处，提高测量的精确度。
烧杯底座泥浆粘度抵接板滑槽检测转子底座中心滑动连接驱动机构中心处滑动泥浆夹持立柱测量粘度测量设备本实用新型电机输出轴垂直设置固定夹持晃动幅度液体粘度上表面抵接伸入电机驱动

[实用新型]一种无蜡抛光操作台-CN201020547710.3无效
发明人：冒飞 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2010-09-29 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的一侧设置有第一旋转台，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二旋转台、两个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述第二旋转台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与所述第二旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有一排水口。本实用新型能够在使用单面抛光机进行无蜡抛光时减少操作带来的不良，并减少操作时间，同时具有方便快捷、易于实施的特点。
一种抛光操作台

[实用新型]硅片夹持装置-CN200920076831.1有效
发明人：罗圣华;冒飞;杨晟远 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2009-06-23 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种硅片夹持装置，包括夹持主体和与该夹持主体相连接的夹持头部，其特征在于，所述的夹持头部包括与夹持主体相连接的伸缩杆，所述的伸缩杆末端设置有夹头，所述的夹头与夹持主体之间形成有夹持空间。采用该种结构的硅片夹持装置，避免接触硅片的两个抛光面，仅接触硅片边缘的倒角面，所用材质不会引入颗粒、金属等污染物，在夹持双面抛光硅片时不会在抛光面上留下吸笔痕迹，也不会有任何污染产生，不仅能够满足双面抛光硅片的生产工艺需要，同时也能够直接使用在单面抛光硅片的生产工艺中，而且作业方便，操作简单方便，夹持稳定牢固，结构简单实用，适用范围较为广泛，为半导体加工工艺的进一步改进和质量优化奠定了坚实的基础。
硅片夹持装置

[实用新型]化学机械研磨抛光头压力环安装装置-CN200920073078.0有效
发明人：冒飞;周哲人;任红州;余图斌;夏明龙 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2009-05-27 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种化学机械研磨抛光头压力环安装装置，包括圆形托盘、至少三滑块和至少三定位弹性组件，圆形托盘上径向设置有至少三刻度，圆形托盘上沿刻度开有滑槽，滑块可移动限位在滑槽中，滑块中至少设置一定位组件，定位组件部分凸出圆形托盘，较佳地，定位组件包括定位件和弹性件，定位件可伸缩限位在滑块中且部分凸出圆形托盘，弹性件位于滑块中并分别抵靠滑块和定位件，刻度均匀分布在圆形托盘上，安装装置还包括至少三定位直尺，定位直尺径向设置在圆形托盘上，刻度设置在定位直尺上，滑槽沿定位直尺设置，圆形托盘上设置有至少一同心圆环线，本实用新型设计巧妙，能精确定位安装压力环，同时具有方便快捷、易于实施的特点。
化学机械研磨抛光压力安装装置

[实用新型]单晶抛光硅片背损伤装置移动托架-CN200920073079.5无效
发明人：夏明龙;任红州;成玉海;黄海梅;冒飞 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2009-05-27 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： B24C9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种单晶抛光硅片背损伤装置移动托架，包括托架主体，其中托架主体周边设置有托架固定部件，托架主体中部设置有均匀分布且相互连接的数个托架支撑部，相邻托架支撑部之间形成有镂空的托架孔，托架支撑部和托架孔共同组成与硅片外形相对应的下凹区域。采用该种结构的单晶抛光硅片背损伤装置移动托架，能够有效降低硅片碎片率，并有效避免了硅片和金属接触所造成的金属污染，能够适应不同研磨剂颗粒大小、喷射压力和移动托架不同移动速度情况，满足了硅片表面研磨剂的充分流动和托盘下盘面清洗的需要，加工硅片效率高，稳定性好，降低了生产成本，结构简单耐用，可操作性强，性能稳定可靠，适用范围较广，产生了好的经济和社会效益。
抛光硅片损伤装置移动托架

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