[实用新型]气相沉积设备反应腔的加热装置有效
申请号: | 200920070253.0 | 申请日: | 2009-04-10 |
公开(公告)号: | CN201406469Y | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 甘志银;胡少林;王亮;陈倩翌;刘胜 | 申请(专利权)人: | 广东昭信半导体装备制造有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C16/18 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) | 代理人: | 汤喜友 |
地址: | 528251广东省佛山市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种气相沉积设备反应腔的加热装置,包括气体A、气体B进气管道、缓冲腔、喷淋口、反应室、基座、石墨舟、加热器、排气管道,其特征在于所述加热器内的加热片位于加热片支撑盘上,其一端分别经地线电极连接柱、地线盘、地线导电支撑柱、夹具、地线电极盘与地线引出电极连接,另一端分别经火线电极连接柱、火线盘、火线导电支撑柱、夹具、火线电极盘、火线引出电极连接,加热片支撑盘、地线盘、火线盘、导电支撑柱经夹具夹持固定。本实用新型的优点是采用可以调节高度的多区辐射方式加热,实现快速升降温、均匀加热及温度调节,有效提高沉积物质的均匀性,从而提高了外延沉积的质量。 | ||
搜索关键词: | 沉积 设备 反应 加热 装置 | ||
【主权项】:
1.一种气相沉积设备反应腔的加热装置,气相沉积设备反应腔由设置于加热器系统顶部的气体A进气管道(14)、反应气体B进气管道(15)、设置于反应气体B进气管道(15)末端的缓冲腔(18)及喷淋口(17)、设置于喷淋口(17)下的反应室(21)、以及基座(20)、石墨舟(19)、加热器(31)、反应废气排出管道(23)组成,其特征在于所述加热器(31)位于基座(20)内,加热器(31)的加热片(7a、7b、7c)位于加热片支撑盘(30)之上,加热片支撑盘(30)位于基座顶部内侧下方,电极盘(22)设置为地线电极盘(22a)、内圈火线电极盘(22b)、中圈火线电极盘(22c)、外圈火线电极盘(22d)四个区域,加热片(7a、7b、7c)的一端分别经地线电极连接柱(8a、8b、8c)、地线盘(6a、6b、6c)、地线导电支撑柱(2a、2b、2c)、夹具(11)、地线电极盘(22a)与地线引出电极25连接,加热片(7a、7b、7c)的另一端分别经火线电极连接柱(9a、9b、9c)、火线盘(5a、5b、5c)、火线导电支撑柱(1a、1b、1c)、夹具(11)、火线电极盘(22b、22c、22d)与火线引出电极(26、28、29)连接,支撑盘(30)、火线盘(5a、5b、5c)、地线盘(6a、6b、6c)之间经连接支撑柱(12)固定连接,夹具(11)固定在地线电极盘(22a)、火线电极盘(22b、22c、22d)之上,加热片支撑盘(30)、地线盘(6a、6b、6c)、火线盘(5a、5b、5c)、导电支撑柱(1a、1b、1c、2a、2b、2c)经夹具(11)夹持固定,隔热盘(3a、3b、3c)位于火线盘(5a、5b、5c)的下方,隔热盘的层间经连接支撑柱(4)固定连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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