[发明专利]用于光刻的组合物和方法有效
| 申请号： | 200910249084.1 | 申请日： | 2009-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101943857A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | D·王;C·吴;C·-B·徐;G·G·巴克雷 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供适用于浸没平版印刷的新型光刻胶组合物。在一优选的方面，提供的光刻胶组合物含有：(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者。在另一优选的方面，提供的光刻胶组合物含有：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)包含足够量的酸性基团以提供至少一埃每秒的暗场溶解速率的一种或多种材料。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种用来处理光刻胶组合物的方法，所述方法包括：(a)在基材上施涂包含以下组分的光刻胶组合物：(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者；以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于能够使该光刻胶组合物活化的辐射。
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