[发明专利]一种CuInS2纳米晶半导体薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910236304.7 申请日: 2009-10-16
公开(公告)号: CN101746715A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 王峰;徐新花;吉静;刘景军 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;H01L31/18;C03C17/22;C25D9/04
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于能源材料领域。本发明分别以氯化铜、氯化铟、硫代硫酸钠和氯化锂作为铜、铟、硫源和支持电解质,以邻苯二甲酸氢钾兼作络合剂和pH缓冲剂配制电沉积液,并调节pH=1.5-3.5后,在搅拌条件下进行电沉积,而后将所得前躯体薄膜在惰性气氛保护条件下于250-500℃下恒温30-180min,得到CuInS2纳米晶半导体薄膜。本发明所提供的方法可控性强,重复好,所制备的CuInS2纳米晶半导体薄膜无杂质,适用于薄膜太阳能电池光吸收层材料。
搜索关键词: 一种 cuins sub 纳米 半导体 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种CuInS2纳米晶半导体薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将邻苯二甲酸氢钾、氯化铜、氯化铟、硫代硫酸钠和氯化锂按摩尔比为(2.0-2.4)∶(0.67-1.5)∶1∶(4-8)∶(10-30)溶于去离子水中,并用盐酸调节pH=1.5-3.5;2)以镍箔或ITO导电玻璃作为工作电极,以铂片作为辅助电极,以饱和甘汞作为参比电极,以步骤1)中配制的溶液作为电沉积液,进行电沉积制备CuInS2前躯体薄膜,工艺参数为:电沉积液的温度控制在20-80℃,电位控制在-0.90--1.10V,沉积时间为5-120min,沉积过程中对电沉积液进行搅拌;3)在氩气或氮气保护条件下,将CuInS2前躯体薄膜于250-500℃下恒温30-180min,得到CuInS2纳米晶半导体薄膜。
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