[发明专利]用于供应源的设备和具有所述设备的用于沉积薄膜的设备

摘要

本发明提供一种用于供应源的设备和一种具有所述设备的用于沉积薄膜的设备。所述用于供应源的设备包含：水平通道，其在一个方向上延伸；抽吸口和转移口，其延伸穿过所述水平通道，所述抽吸口和转移口彼此间隔开；转移轴，其插入所述水平通道内以在其中往复运动；以及储存室，其连接到所述抽吸口的一侧，所述储存室储存和供应粉末源，其中所述转移轴包括至少一个转移孔，以用于允许经由所述抽吸口供应的所述粉末源填充于其中且经由所述转移口转移到外部设备。如上文所描述，根据本发明，通过使转移轴往复运动而将填充于转移孔中的粉末源供应到外部设备，使得可将供应到所述外部设备的所述粉末源的量定量控制为与对应于所述转移孔的内部体积的固定量一样多。

主权项

1.一种用于供应源的设备，其包括：水平通道，其在一个方向上延伸；抽吸口和转移口，其延伸穿过所述水平通道，所述抽吸口和转移口彼此间隔开；转移轴，其插入所述水平通道内以在其中往复运动；以及储存室，其连接到所述抽吸口的一侧，所述储存室储存和供应粉末源，其中所述转移轴包括至少一个转移孔，以用于允许经由所述抽吸口供应的所述粉末源填充于其中且经由所述转移口转移到外部设备。