[发明专利]太赫兹波段偏振片及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200910198202.0 申请日: 2009-11-03
公开(公告)号: CN101702042A 公开(公告)日: 2010-05-05
发明(设计)人: 栗芳芳;舒时伟;李栋;马国宏;戴晔;马洪良;郭青天 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 何文欣
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种太赫兹波段偏振片及其制作方法。本偏振片由基片和基片上的金属薄膜组成,金属薄膜上有周期性金属金属刻槽形成金属线条。本方法利用物理或化学的方法在基片上镀膜,利用脉冲激光对金属薄膜刻蚀。本偏振片的波段处于微波和红外波之间,本偏振片在频率0.1THz~1.6THz的范围消光比都小于10%。本发明的制作方法中,采用激光离焦的方法对金属薄膜进行刻蚀,只需通过控制激光焦点到金属表面的距离来控制刻蚀线条的宽度。
搜索关键词: 赫兹 波段 偏振 及其 制作方法
【主权项】:
一种太赫兹波段偏振片,由基片(1)和基片上所镀的金属薄膜(2)组成,其特征在于在所述的金属薄膜(2)上有周期性金属刻槽,形成金属线条。
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