[发明专利]制造薄膜晶体管阵列基板的方法

摘要

公开了一种制造薄膜晶体管阵列基板的方法。该方法包括：使用第一掩模，在基板上形成栅电极、栅极线和栅极焊盘；在基板上形成栅极绝缘膜、半导体层和金属层；使用第二掩模，在金属层上形成第一光刻胶图形；使用第一光刻胶图形，形成用于栅极焊盘的第一接触孔；形成第二光刻胶图形，以及使用第二光刻胶图形，提供用于数据焊盘、数据线和薄膜晶体管的图形；提供第三光刻胶图形，以及使用第三光刻胶图形，形成用于源/漏电极的接触孔和用于栅极焊盘的第二接触孔；使用第三掩模，在基板上形成保护膜和在保护膜上提供第四光刻胶图形；使用第四光刻胶图形，形成用于栅极焊盘的第三接触孔、用于数据焊盘、栅极线和漏电极的接触孔，以及用于像素电极的接触孔；在具有接触孔的第四光刻胶图形上形成透明导电膜。

主权项

1、一种制造薄膜晶体管阵列基板的方法，包括：使用第一掩模，在基板上形成栅电极、栅极线和栅极焊盘；在基板上形成栅极绝缘膜、半导体层和金属层；使用第二掩模，在金属层上形成第一光刻胶图形；使用第一光刻胶图形，形成用于栅极焊盘的第一接触孔；灰化第一光刻胶图形，从而形成第二光刻胶图形，以及使用第二光刻胶图形，形成用于数据焊盘、数据线和薄膜晶体管的图形；灰化第二光刻胶图形，从而形成第三光刻胶图形，以及使用第三光刻胶图形，形成用于源/漏电极的接触孔和用于栅极焊盘的第二接触孔；使用第三掩模，在基板上形成保护膜和在保护膜上提供第四光刻胶图形；使用第四光刻胶图形，形成用于栅极焊盘的第三接触孔、用于数据焊盘、栅极线和漏电极的接触孔，以及用于像素电极的接触孔；在具有接触孔的第四光刻胶图形上形成透明导电膜，从而在第三接触孔中提供用于栅极焊盘的第一透明电极，在用于数据焊盘的接触孔中提供第二透明电极，在用于像素电极的接触孔中提供第三透明电极，在用于栅极线的接触孔中提供第四透明电极，以及在用于漏电极的接触孔中提供第五透明电极；以及除去第四光刻胶图形，其中第三掩模包括透射光的透射区、部分地透射和阻挡光的半透射区、以及阻挡光的阻挡区，并且这三个区具有不同的透射率。