[发明专利]阵列基底及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910142726.8 申请日: 2009-06-02
公开(公告)号: CN101783353A 公开(公告)日: 2010-07-21
发明(设计)人: 禹和成;章珠宁;辛哲;严允成;宋美贞 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/528;H01L21/84;H01L21/768;G02F1/1362
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;马翠平
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种阵列基底和一种制造所述阵列基底的方法。在阵列基底和制造所述阵列基底的方法中,阵列基底包括第一开关元件、第二开关元件、第三开关元件和第四开关元件。第一开关元件电连接到第一数据线。第二开关元件电连接到与第一数据线相邻的第二数据线。第三开关元件电连接到设置在第一数据线和第二数据线之间的数据功率线。第四开关元件电连接到栅极功率线,该栅极功率线接收与施加到数据功率线的电压具有不同极性的电压。因此,提高了透光率、开口率和显示质量。
搜索关键词: 阵列 基底 及其 制造 方法
【主权项】:
一种阵列基底,包括:第一开关元件,电连接到第一数据线;第二开关元件,电连接到与所述第一数据线相邻的第二数据线;第三开关元件,电连接到设置在所述第一数据线和所述第二数据线之间的数据功率线;第四开关元件,电连接到栅极功率线,所述栅极功率线接收与施加到所述数据功率线的电压具有不同极性的电压。
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