[发明专利]静电吸盘有效
| 申请号： | 200910127342.9 | 申请日： | 2009-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN101533798A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 后藤义信 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/687 | 分类号： | H01L21/687;H01L23/60;H01L23/34 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张敬强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及静电吸盘。本发明的静电吸盘在具备冷却装置和配置在上述冷却装置上且具有工件载置面的静电吸盘主体的半导体制造装置中使用，其特征在于：设有以贯穿上述冷却装置且从上述冷却装置的一个主面到达另一主面表面的方式延伸的气体供给孔，在上述气体供给孔的开口部设有直径比上述气体供给孔大的主沉孔部；在上述主沉孔部，埋入由设有与上述气体供给孔连通的气体流路的绝缘部件所构成的防电弧部件；在上述工件载置面，设有通过上述气体流路而与上述气体供给孔连通的细孔。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
1. 一种静电吸盘，在具备冷却装置和配置在上述冷却装置上且具有工件载置面的静电吸盘主体的半导体制造装置中使用，其特征在于：设有以贯穿上述冷却装置且从上述冷却装置的一个主面到达另一主面表面的方式延伸的气体供给孔，在上述气体供给孔的开口部设有直径比上述气体供给孔大的主沉孔部；在上述主沉孔部，埋入由设有与上述气体供给孔连通的气体流路的绝缘部件所构成的防电弧部件；在上述工件载置面，设有通过上述气体流路而与上述气体供给孔连通的细孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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