[发明专利]利用机械力化学去除冶金硅中微量磷、硼杂质的方法及所用助剂无效
| 申请号： | 200910117384.4 | 申请日： | 2009-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN101613107A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 祁利民;刘海 | 申请（专利权）人： | 北方民族大学 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 宁夏专利服务中心 | 代理人： | 赵明辉 |
| 地址： | 750021宁夏回族*** | 国省代码： | 宁夏;64 |
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| 摘要： | 本发明涉及在制造高纯金属硅过程中除杂的方法，尤其是利用机械力化学去除冶金硅中微量磷、硼杂质的方法及所用助剂，其特点是，包括如下步骤，在金属硅粉中添加2-8％重量百分含量的权利要求1或2所述的助剂，充分混匀后，一起粉碎至金属硅达到140-200目，然后通过酸洗后，去离子水洗涤至中性，过滤分离出固体物后，干燥即可。本发明采用机械力化学的方法，在精选冶金硅被粉碎的过程中添加能够与磷、硼等元素结合，但不与金属硅反应的复合助剂，使金属硅中磷杂质的含量达到4ppm以下，将硼杂质降低至1ppm以下。本方法可减少真空熔炼和定向凝固次数，减少能量消耗，可显著降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 机械 化学 去除 冶金 微量 杂质 方法 所用 助剂 | ||
【主权项】：
1、一种助剂，其特征在于，以重量份计其组成为：表面活性剂 0.5-2.0份碱 1.0-5.0份金属氧化物 0.5-3.0份。
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