[发明专利]一种硅片蚀刻液及其制备方法

摘要

本发明涉及一种硅片蚀刻液及其制备方法，该蚀刻液由如下组分组成：a)碱金属的氢氧化物；b)碱金属的偏硅酸盐；c)碱金属的烯二酸盐；d)金属羰基化合物；e)水，其中，组分a)、b)、c)、d)的摩尔比为1.2～4∶1∶0.1～1∶0.2～1，组分e)占所述硅片蚀刻液总重量的25％～55％。所述方法包括如下步骤：首先在反应容器中，将化合物a)与二氧化硅按摩尔比2～2.2∶1混合，并使它们在水溶剂中，于温度50℃～120℃下反应生成所述的化合物b)；然后分别将化合物c)、化合物d)加入到反应容器中，于温度100℃～150℃下保温搅拌至少2小时。本发明能够提高硅片表面蚀刻质量，降低蚀刻生产成本，减少污染环境。

主权项

1、一种硅片蚀刻液，其特征在于：其由如下组分组成：a)碱金属的氢氧化物；b)碱金属的偏硅酸盐；c)碱金属的烯二酸盐；d)金属羰基化合物；e)水，其中，组分a)、b)、c)、d)的摩尔比为1.2～4∶1∶0.1～1∶0.2～1，组分e)占所述硅片蚀刻液总重量的25％～55％。