[发明专利]一种硅基太阳能薄膜的制备方法无效
| 申请号: | 200910111539.3 | 申请日: | 2009-04-17 | 
| 公开(公告)号: | CN101764177A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 | 
| 发明(设计)人: | 张伟娜;郑智雄;南毅;马殿军;王致绪;邹予;赵志跃;徐诗双;洪朝海;戴文伟 | 申请(专利权)人: | 南安市三晶阳光电力有限公司 | 
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C30B28/04 | 
| 代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭 | 
| 地址: | 362000 中国福*** | 国省代码: | 福建;35 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | 一种硅基太阳能薄膜的制备方法,涉及一种液相外延技术。该方法包括以下步骤:首先将In溶解,然后将装有衬底硅片的衬底夹具置入In中,升温,通过控制升温速度和时间控制硅片在溶剂中的溶解量,溶解30μm-40μm左右后开始降温,溶解于In中的硅原子由于溶解度的下降而外延生长于硅片上;10-20h后,将硅片载体缓慢提升出液面,冷却后将硅片取出。采用本发明的方法可由4-5N衬底硅片外延生长得到6N硅片。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 太阳能 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
                一种硅基太阳能薄膜的制备方法,其步骤包括:步骤1:将4-5N硅片装入衬底夹具;石墨坩埚中装入作为溶剂的In;炉室内抽真空后通入惰性气体,同时关闭真空泵,保持微正压。步骤2:升温至In熔点156.634℃以上,将In溶解后,将装载有硅片的衬底夹具放入In熔液中;步骤3:逐渐升温至900℃,使硅片溶解;通过控制升温速度和时间控制硅片在溶剂中的溶解量;步骤4:降低温度0.2-1℃/h,溶解于In中的硅原子由于溶解度的下降而外延生长于衬底硅片上;10-20h后,将衬底夹具缓慢提升出液面,冷却后将硅片取出。
            
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                    H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
                
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