[发明专利]一种硅基太阳能薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910111539.3 申请日: 2009-04-17
公开(公告)号: CN101764177A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 张伟娜;郑智雄;南毅;马殿军;王致绪;邹予;赵志跃;徐诗双;洪朝海;戴文伟 申请(专利权)人: 南安市三晶阳光电力有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;C30B28/04
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭
地址: 362000 中国福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种硅基太阳能薄膜的制备方法,涉及一种液相外延技术。该方法包括以下步骤:首先将In溶解,然后将装有衬底硅片的衬底夹具置入In中,升温,通过控制升温速度和时间控制硅片在溶剂中的溶解量,溶解30μm-40μm左右后开始降温,溶解于In中的硅原子由于溶解度的下降而外延生长于硅片上;10-20h后,将硅片载体缓慢提升出液面,冷却后将硅片取出。采用本发明的方法可由4-5N衬底硅片外延生长得到6N硅片。
搜索关键词: 一种 太阳能 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种硅基太阳能薄膜的制备方法,其步骤包括:步骤1:将4-5N硅片装入衬底夹具;石墨坩埚中装入作为溶剂的In;炉室内抽真空后通入惰性气体,同时关闭真空泵,保持微正压。步骤2:升温至In熔点156.634℃以上,将In溶解后,将装载有硅片的衬底夹具放入In熔液中;步骤3:逐渐升温至900℃,使硅片溶解;通过控制升温速度和时间控制硅片在溶剂中的溶解量;步骤4:降低温度0.2-1℃/h,溶解于In中的硅原子由于溶解度的下降而外延生长于衬底硅片上;10-20h后,将衬底夹具缓慢提升出液面,冷却后将硅片取出。
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