[发明专利]去除GaN基LED芯片蓝宝石衬底的方法无效
申请号: | 200910097893.5 | 申请日: | 2009-04-22 |
公开(公告)号: | CN101872814A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 江忠永;田洪涛;张向飞;徐瑾 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/304;H01L21/3065 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种去除GaN基LED芯片的蓝宝石衬底的方法,包括步骤:(1)采用圆片键合的方式制作导热基座;(2)机械研磨蓝宝石衬底;(3)ICP刻蚀蓝宝石衬底,采用本发明提供的方法,可以在蓝宝石衬底相对较厚时采用砂轮减薄蓝宝石衬底的方法,当蓝宝石衬底相对较薄时钻石研磨的方法,既有利于去除蓝宝石衬底的速度,也可避免高温,有利于保证器件可靠性,而采用ICP刻蚀蓝宝石,有助于保证去除蓝宝石衬底后,GaN基外延层厚度均匀一致,同时采用本方法,可以方便地实现衬底转移,不需专门的激光刻蚀设备,所用设备与普通的GaN基LED芯片制造设备通用,节省成本。 | ||
搜索关键词: | 去除 gan led 芯片 蓝宝石 衬底 方法 | ||
【主权项】:
去除GaN基LED芯片的蓝宝石衬底的方法,其特征在于包括步骤:(1)采用圆片键合的方式制作导热基座;(2)机械研磨蓝宝石衬底;(3)ICP刻蚀蓝宝石衬底;其中,所述的采用圆片键合的方式制作导热基座,包括步骤:(A)在LED外延圆片的表面蒸镀p型GaN金属电极;(B)蒸镀焊料层,所述蒸镀焊料层键合外延圆片和导热基座;其中,所述的机械研磨蓝宝石衬底,包括步骤:(A)用砂轮减薄蓝宝石衬底;(B)用钻石研磨液研磨蓝宝石衬底;其中,所述ICP刻蚀蓝宝石衬底的方法为:调整ICP刻蚀条件,以较快速率刻蚀蓝宝石,较慢的速率刻蚀GaN基,去除蓝宝石衬底,从而保证剩余蓝宝石衬底的外延层厚度均匀性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州士兰明芯科技有限公司,未经杭州士兰明芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910097893.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电子装置及其接口保护盖的固定结构
- 下一篇:一种芯片焊接方法及结构