[发明专利]去除GaN基LED芯片蓝宝石衬底的方法无效

专利信息
申请号: 200910097893.5 申请日: 2009-04-22
公开(公告)号: CN101872814A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 江忠永;田洪涛;张向飞;徐瑾 申请(专利权)人: 杭州士兰明芯科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/304;H01L21/3065
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种去除GaN基LED芯片的蓝宝石衬底的方法,包括步骤:(1)采用圆片键合的方式制作导热基座;(2)机械研磨蓝宝石衬底;(3)ICP刻蚀蓝宝石衬底,采用本发明提供的方法,可以在蓝宝石衬底相对较厚时采用砂轮减薄蓝宝石衬底的方法,当蓝宝石衬底相对较薄时钻石研磨的方法,既有利于去除蓝宝石衬底的速度,也可避免高温,有利于保证器件可靠性,而采用ICP刻蚀蓝宝石,有助于保证去除蓝宝石衬底后,GaN基外延层厚度均匀一致,同时采用本方法,可以方便地实现衬底转移,不需专门的激光刻蚀设备,所用设备与普通的GaN基LED芯片制造设备通用,节省成本。
搜索关键词: 去除 gan led 芯片 蓝宝石 衬底 方法
【主权项】:
去除GaN基LED芯片的蓝宝石衬底的方法,其特征在于包括步骤:(1)采用圆片键合的方式制作导热基座;(2)机械研磨蓝宝石衬底;(3)ICP刻蚀蓝宝石衬底;其中,所述的采用圆片键合的方式制作导热基座,包括步骤:(A)在LED外延圆片的表面蒸镀p型GaN金属电极;(B)蒸镀焊料层,所述蒸镀焊料层键合外延圆片和导热基座;其中,所述的机械研磨蓝宝石衬底,包括步骤:(A)用砂轮减薄蓝宝石衬底;(B)用钻石研磨液研磨蓝宝石衬底;其中,所述ICP刻蚀蓝宝石衬底的方法为:调整ICP刻蚀条件,以较快速率刻蚀蓝宝石,较慢的速率刻蚀GaN基,去除蓝宝石衬底,从而保证剩余蓝宝石衬底的外延层厚度均匀性。
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