[发明专利]一种制备DLC薄膜的方法、由此制造的DLC膜容器及生产装置

摘要

本发明涉及一种改善内表面沉积膜层膜基结合强度及提高沉积膜层均匀性的工艺、装置和方法。装置特征是：设计出一套容器内壁DLC膜制备及生产装置，包括高频与偏压复合电源，真空反应室，集磁装置等。在生产过程中，通过向所述的外端电极(3)施加高频，在所述中心管电极(7)与外端电极(3)之间产生电势差，由此激发气体产生等离子体，同时在所述外端电极(3)上施加直流负偏压，使正离子加速轰击容器内壁，增强了DLC膜与基体的结合力。还有，由于容器内部等离子体分布不均匀，会造成成膜厚度不均匀。根据带电粒子在磁场中受电磁力作用，引入磁场改变等离子体分布，使得等离子体分布在磁场的作用下可控，得到高质量涂层。

主权项

1、一种用于制造覆有DLC薄膜容器的装置，包括RF/DC复合电源，真空室，真空泵，气体供给装置，外端电极(3)与中心管电极(7)，集磁装置等。