[发明专利]一种用于硬盘盘基片的抛光组合物无效

专利信息
申请号: 200910077036.9 申请日: 2009-01-16
公开(公告)号: CN101463230A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 潘国顺;周艳;罗桂海;雒建斌;路新春;刘岩 申请(专利权)人: 清华大学;深圳清华大学研究院
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C23F3/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 童晓琳
地址: 100084北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于计算机存储器硬盘制造技术领域的一种用于硬盘盘基片的抛光组合物。一种用于硬盘盘基片的抛光组合物,包含磨料和水,还包含抛光促进剂和润滑剂,按重量百分含量为,磨料:0.5~20%、抛光促进剂:0.01~10%、润滑剂:0.00001~5%,其余为水。抛光组合物中还含有pH值调节剂。抛光组合物pH值为0.5~5。本发明提供的抛光组合物主要适用于硬盘盘基片制造中的抛光工艺,具有抛光去除速率高的特点,经其抛光后的盘基片表面划痕少、无凹坑及突起等缺陷,且表面光滑,平均表面粗糙度可达到3埃以下。
搜索关键词: 一种 用于 盘盘 抛光 组合
【主权项】:
1、一种用于硬盘盘基片的抛光组合物,包含磨料和水,其特征在于,还包含抛光促进剂和润滑剂,按重量百分含量为,磨料:0.5~20%、抛光促进剂:0.01~10%、润滑剂:0.00001~5%,其余为水。
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