[发明专利]一种化学机械磨削液制备方法无效
申请号: | 200910010463.5 | 申请日: | 2009-02-23 |
公开(公告)号: | CN101503599A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
发明(设计)人: | 张振宇;周红秀;郭东明;高航;康仁科 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C09G1/18 | 分类号: | C09G1/18 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 | 代理人: | 侯明远 |
地址: | 116024辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种化学机械磨削液制备方法,属于软脆功能晶体磨削抛光加工技术领域,特别涉及II-VI化合物软脆功能晶体磨削抛光加工方法。其特征是化学机械磨削液不含任何游离磨料,表面分散剂、氧化剂、活性剂,只是由溴、去离子水或蒸馏水、硝酸、有机酸的一种、有机醇的一种、无机酸的一种组成。溴与有机醇的体积百分比为1-5%,硝酸∶无机酸∶有机酸体积百分比为0.5-1∶3-5∶10-20,用去离子水或者蒸馏水稀释至pH值为2.0-3.2之间即可配制成化学机械磨削液。本磨削液采用了化学腐蚀与化学反应两种方式去除材料,具有较高的材料去除率,并有效避免了游离磨料的嵌入、划伤、微裂纹、塑性变形等缺陷,达到高效无应力超精密磨削与抛光的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械 磨削 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种化学机械磨削液制备方法,由去离子水、硝酸、有机酸、无机酸、有机醇、溴组成,采用无游离磨料的化学融解与腐蚀双重材料去除作用,实现高效无应力化学机械磨削,其特征是:(1)由去离子水或蒸馏水、硝酸、有机醇、溴、无机酸、有机酸组成;(2)溴在有机醇类的体积百分含量为1-5%,这种溴—有机醇类在化学机械磨削液中的体积百分含量为1-20%;(3)有机酸∶无机酸∶硝酸的体积百分比为10-20∶3-5∶0.5-1;这种混合酸在化学机械磨削液中的体积百分比为1-10%;(4)溶液的pH值为2.0-3.2,pH值调节剂为去离子水或蒸馏水、硝酸。
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