[发明专利]具有旋转过滤器装置的光刻设备无效

专利信息
申请号: 200880106413.0 申请日: 2008-09-12
公开(公告)号: CN101802714A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: E·J·布斯;T·A·R·范埃姆皮尔 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;C04B35/83;G21K1/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王新华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种包括过滤器装置(149)的光刻设备(1)。过滤器装置(149)具有连接至保持器(201)的多个翼片(200),所述保持器能够围绕旋转轴线(RA)旋转。所述翼片(200)被布置基本上平行于所述旋转轴线(RA)。所述翼片(200)包括从由碳-碳复合物(C-C复合物)和碳-碳化硅复合物(C-SiC复合物)构成的组中选出的单向碳纤维复合材料。在操作期间,过滤器装置(149)旋转且过滤出来自辐射源(SO),例如Sn等离子体源的碎片。可以提供这样的过滤器装置(149)本身。
搜索关键词: 具有 旋转 过滤器 装置 光刻 设备
【主权项】:
一种光刻设备,所述光刻设备包括过滤器装置,所述过滤器装置包括连接至保持器的多个翼片,所述保持器能够围绕旋转轴线旋转,所述翼片被布置成基本上平行于所述旋转轴线,且包括从由碳-碳复合物和碳-碳化硅复合物构成的组中选出的单向碳纤维复合材料。
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