[发明专利]修饰的聚合物组合物、修饰方法以及自由基生成剂

摘要

本发明涉及用于修饰聚合物组合物的方法，涉及修饰的聚合物组合物，涉及含有所述修饰的聚合物组合物的物件、优选为电线或电缆，涉及制备物件、优选电线或电缆的方法，涉及所述修饰的聚合物在电线或电缆的一层或多层中的应用，以及涉及用作自由基生成剂以修饰聚合物组合物的化合物。

主权项

1.一种化合物，其是下式(I)的有机过氧化物：其中-R¹和R¹’各自独立地是H，取代或未取代的饱和或部分不饱和的烃基，或取代或未取代的芳烃基；-其中每个所述取代或未取代的饱和或部分不饱和的烃基或芳烃基，任选地含有一个或多个杂原子；并且-其中所述取代的饱和或部分不饱和烃基或取代的芳烃基，独立地含有1到4个取代基，所述取代基选自官能团，任选地带有官能团的饱和或部分不饱和的烃基，或任选地带有官能团的芳烃基；-R²、R²’、R³和R³’各自独立地是H，取代或未取代的饱和或部分不饱和的烃基，或取代或未取代的芳烃基；-其中每个所述取代或未取代的饱和或部分不饱和的烃基或芳烃基，任选地含有一个或多个杂原子；并且-其中所述取代的饱和或部分不饱和烃基或取代的芳烃基，独立地含有1到4个取代基，所述取代基选自官能团，任选地带有官能团的饱和或部分不饱和的烃基，或任选地带有官能团的芳烃基；或-R²和R³与它们所连接的碳原子(C¹)一起，形成了3到14个碳原子的未取代或取代的、饱和或部分不饱和的碳环基团；3到14个环原子、其中包含1到6个选自O、N、P、S或Si的杂原子的未取代或取代的、饱和或部分不饱和的杂环基团；或3到14个碳原子、任选地含有1到4个杂原子的未取代或取代的芳环基团；-其中所述碳环、杂环或芳环系统，任选地与另一个具有4到14个环原子的环系统稠合；并且-其中所述被取代的碳环、杂环或芳环系统含有1到4个取代基，所述取代基独立地选自官能团，任选地带有官能团的饱和或部分不饱和的烃基，或任选地带有官能团的芳烃基；或-R²’和R³’与它们所连接的碳原子(C¹’)一起，形成了3到14个碳原子的未取代或取代的、饱和或部分不饱和的碳环基团；3到14个环原子、其中包含1到6个选自O、N、P、S或Si的杂原子的未取代或取代的、饱和或部分不饱和的杂环基团；或3到14个碳原子、任选地含有1到4个杂原子的未取代或取代的芳环基团；-其中所述碳环、杂环或芳环系统，任选地与另一个具有4到14个环原子的环系统稠合；并且-其中所述被取代的碳环、杂环或芳环系统含有1到4个取代基，所述取代基独立地选自官能团，任选地带有官能团的饱和或部分不饱和的烃基，或任选地带有官能团的芳烃基；或-R²和R²’一起形成了双价的取代或未取代的、饱和或部分不饱和的烃基，任选地含有1到4个杂原子，其中R²与C¹、R²’与C¹’分别相连，与-C¹-O-O-C¹’-一起形成了3到14个碳原子的取代或未取代的、饱和或部分不饱和的碳环基团，所述碳环基团除了所述至少两个O原子之外，任选地含有1到4个其它的杂原子；其中所述碳环或杂环系统，任选地与具有4-14个环原子的另一个环系统稠合；或其功能衍生物；-前提是R¹、R²和R³中的至少两个，以及R¹’、R²’和R³’中的至少两个，分别地不是H或甲基。