[发明专利]除草剂组合物有效

专利信息
申请号: 200880008598.1 申请日: 2008-03-10
公开(公告)号: CN101636084A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 大野修二;藤波周;山地充洋;花井涼;池内利祐 申请(专利权)人: 组合化学工业株式会社
主分类号: A01N43/80 分类号: A01N43/80;A01N25/12;A01N25/14;A01N33/18;A01N43/54;A01N47/30;A01N47/36;A01P13/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈 昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种除草剂组合物,该除草剂组合物对有用作物的安全性高,对于在水田、旱田、非农耕地等中成为问题的各种杂草,可以在发芽前至生长期的广范围内进行防除。该除草剂组合物的特征在于,含有从式[I]表示的特定的异噁唑啉衍生物(式中,R1~R4表示氢原子、烷基等,Q表示基团-S(O)n-(CR5R6)m-,n表示0~2的整数,m表示1~3的整数,R5和R6表示烷基等。)及其盐中选出的1种或2种以上的化合物[成分A]、以及环己二酮类化合物、苯基吡唑啉类化合物或者磺酰氨基羰基三唑啉酮类化合物等[成分B]作为有效成分。
搜索关键词: 除草剂 组合
【主权项】:
1、除草剂组合物,其特征在于,含有从以下记载的式[I]表示的异噁唑啉衍生物及其盐中选出的1种或2种以上化合物[成分A]、和以下记载的[成分B]作为有效成分,[成分A]:式中,Q表示基团-S(O)n-(CR5R6)m-;n表示0~2的整数,m表示1~3的整数;R5和R6相互独立地表示氢原子、氰基、烷氧羰基或者C1~C6烷基;R1和R2表示氢原子、[可被C3~C8环烷基、C1~C6烷氧基、C1~C6烷基羰基、C1~C6烷硫基、C1~C6烷基亚硫酰基、C1~C6烷基磺酰基、C1~C6烷基氨基、二(C1~C6烷基)氨基、氰基、C1~C6烷氧羰基、C1~C6烷基氨基羰基、二(C1~C6烷基)氨基羰基、(C1~C6烷硫基)羰基、羧基、(可被取代的)苄氧基、(可被取代的)苯氧基或者(可被取代的)苯基取代的]C1~C8烷基、C3~C8环烷基、C1~C6烷氧羰基、C1~C6烷基氨基羰基、二(C1~C6烷基)氨基羰基、C1~C6烷硫基羰基、羧基或者(可被取代的)苯基,或者,R1和R2也可以与它们所键合的碳原子一起形成C3~C7的螺环;R3和R4表示氢原子、(可被相同或不同的1~3个卤原子、C3~C8环烷基或者C1~C6烷氧基取代)的C1~C8烷基、或者C3~C8环烷基,R3和R4也可以与它们所键合的碳原子一起形成C3~C7的螺环;或者,R1和R2中的任一个基团也可以与R3和R4中的任一个基团一起,与它们所键合的碳原子共同形成5~8元环;Y表示氢原子、C1~C6烷氧羰基、羧基、C2~C6烯基、[可被相同或不同的1~3个卤原子、C1~C6烷氧基、C2~C6烯氧基、C2~C6炔氧基、(可被取代的)苄氧基、C1~C6烷氧羰基、羧基、羟基或者甲酰基取代的]C1~C10烷基、被1~5个相同或不同的R7取代的苯基或者被1~5个相同或不同的R7取代的萘基;R7表示氢原子、[可被相同或不同的1~3个卤原子、C1~C6烷氧基、羟基、C1~C6烷硫基、C1~C6烷基亚硫酰基、C1~C6烷基磺酰基、C1~C6烷基氨基、C1~C 6二烷基氨基、氰基或者(可被取代的)苯氧基取代的]C1~C6烷基、(可被相同或不同的1~3个卤原子、C1~C6烷氧基、C2~C6烯基、C2~C6炔基、C2~C6烯氧基、C2~C6炔氧基、C1~C6烷氧羰基、C1~C6烷基羰基或者C3~C8环烷基取代)的C1~C6烷氧基、C3~C8环烷氧基、可被相同或不同的1~3个卤原子或者C1~C6烷氧基取代的C1~C6烷硫基、可被相同或不同的1~3个卤原子或者C1~C6烷氧基取代的C1~C6烷基亚硫酰基、可被相同或不同的1~3个卤原子或者C1~C6烷氧基取代的C1~C6烷基磺酰基、(可被取代的)苄氧基、[可被C1~C6烷基、C1~C6烷基磺酰基、C1~C6烷基羰基(C1~C6烷基)基或者C1~C6烷基磺酰基(C1~C6烷基)基取代的]氨基、卤原子、氰基、硝基、C1~C6烷氧羰基、C3~C8环烷氧羰基、羧基、C2~C6烯氧羰基、C2~C6炔氧羰基、(可被取代的)苄氧羰基、(可被取代的)苯氧羰基、或者C1~C6烷基羰氧基,[成分B]选自以下的1种或2种以上的化合物:环己二酮类化合物、苯基吡唑啉类化合物、磺酰氨基羰基三唑啉酮类化合物、三唑啉酮类化合物(光合作用II抑制剂)、尿嘧啶类化合物、哒嗪酮类化合物、氨基甲酸苯酯类化合物、脲类化合物(光合作用II抑制剂)、羟基苄腈类化合物、苯基哒嗪类化合物、联吡啶鎓类化合物、苯基邻苯二甲酰亚胺类化合物、噻二唑类化合物、嘧啶二酮类化合物、苯基吡唑类化合物、哒嗪酮类化合物、三唑类化合物、异噁唑烷酮类化合物、吡啶羧酰胺类化合物、二苯醚类化合物(4-羟苯丙酮酸二氧酶抑制剂、类胡萝卜素合成抑制剂)、脲类化合物(4-羟苯丙酮酸二氧酶抑制剂、类胡萝卜素合成抑制剂)、氨基甲酸酯类化合物(叶酸合成抑制剂)、二硝基苯胺类化合物、苯二羧酸类化合物、苯甲酰胺类化合物(细胞分裂抑制剂、超长链脂肪酸合成抑制剂)、氨基甲酸酯类化合物(细胞分裂抑制剂、超长链脂肪酸合成抑制剂)、苄腈类化合物、苯甲酰胺类化合物(纤维素合成抑制剂)、三唑并羧酰胺类化合物、二硝基苯酚类化合物、氯代羧酸类化合物、二硫代磷酸酯类化合物、吡啶羧酸类化合物、苯并噻唑酮类化合物、缩氨基脲类化合物、邻氨甲酰苯甲酸酯类化合物、氟唑草胺、氟哒嗪草酯、氟丁酰草胺、氟啶草酮、氟咯草酮、呋草酮、哌草磷、野燕枯、麦草伏甲酯、环庚草醚、杀木膦、苄草隆、杀草隆、甲基杀草隆、氯氟草醚乙酯、调吡脲、噻苯隆、pyrasulfotole、抑芽丹、氟嘧菌胺、环丙嘧啶醇、呋嘧醇、矮壮素、甲哌鎓、喹草酸、丙苯磺隆-钠盐、丙苯磺隆、氟吡磺隆、特胺灵、吡喃隆、氨氟乐灵、三嗪氟草胺、唑啉草酯、bencarbazone、topramezone、tembotrione、它们的盐及它们的类似物。
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