[发明专利]蒸镀装置无效
| 申请号: | 200880002642.8 | 申请日: | 2008-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN101688302A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
| 发明(设计)人: | 小石亮介;权田俊明;高桥嘉洋 | 申请(专利权)人: | 东洋制罐株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种虽然使用现有的真空蒸镀装置但也能够大幅度缩短对容器的蒸镀时间的蒸镀装置。蒸镀装置设有能以旋转轴为中心旋转的旋转体(14)、在旋转体(14)上朝向周向配设有多个蒸镀单元、在面对旋转体14的周部的位置配置有微波振荡器(34)。在蒸镀单元(15)从蒸镀单元(15)的处理室主体(16)的容器供给位置向容器蒸镀位置旋转移动期间内,利用真空装置对容器(25)内和处理室(24)内进行预减压,在容器蒸镀位置蒸镀单元和振荡器(34)接近后,对容器内和处理室进行了主减压。然后,利用微波振荡器(34)蒸镀容器。 | ||
| 搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:支承台,能间歇旋转;多个蒸镀单元,其具有开闭自如的处理室,其沿周向隔开间隔地配设在该支承台上,利用该支承台的间歇旋转依次位于搬入/搬出区域、预减压区域、蒸镀区域和减压解除区域;被蒸镀体搬入/搬出部件,其用于将蒸镀有薄膜的被蒸镀体自位于该搬入/搬出区域的该蒸镀单元的该处理室内搬出,且将要蒸镀薄膜的被蒸镀体搬入到被搬出L被蒸镀体的该蒸镀单元的该处理室内;预减压部件,其对位于该预减压区域的该蒸镀单元的该处理室内进行排气而使该处理室内成为减压状态;蒸镀部件,其包括:为了对存在于位于该蒸镀区域的该蒸镀单元的该处理室内的被蒸镀体蒸镀薄膜而对该处理室内进行排气使该处理室内成为减压状态的主减压部件;向该处理室内供给薄膜蒸镀所需要的气体的气体供给部件和用于在该处理室内生成电磁波的电磁波生成部件;以及减压解除部件,其解除位于该减压解除区域的该蒸镀单元的该处理室内的减压状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东洋制罐株式会社,未经东洋制罐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880002642.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于在吸收式冷却器中进行排热的方法和系统
- 下一篇:制备吸收性物品的方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





