[发明专利]蒸镀装置无效
| 申请号: | 200880002642.8 | 申请日: | 2008-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN101688302A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
| 发明(设计)人: | 小石亮介;权田俊明;高桥嘉洋 | 申请(专利权)人: | 东洋制罐株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 | ||
技术领域
本发明涉及用于在容器上形成蒸镀膜的蒸镀装置。
背景技术
在下述的专利文献1中,公开有包括输送部件的CVD蒸镀装置。在输送部件上设有圆形状的输送面,输送面以朝向上下方向的旋转轴为中心移动地构成。输送面在周向上被分成4个区域,在各区域上设有保持架和涂敷设备,收容有被蒸镀的塑料瓶等多个零件的壳体借助于保持架而被供给到涂敷设备。
在输送部件的外部确定如下位置:用于面对输送部件地将壳体供给到保持架的供给位置、配设有在蒸镀处理前对涂敷设备进行减压的泵的排出(减压)位置、配设有生成用于蒸镀涂敷设备内的零件的微波的部件和用于对涂敷设备进行减压的泵的涂敷位置、和用于从保持架搬出壳体的卸货位置,在各自的位置上设有用于进行上述作业的设备。
蒸镀装置的作业如下:壳体在壳体的供给位置借助输送部件的保持架被供给到涂敷设备之后,在使输送部件旋转规定角度的排出位置利用泵对涂敷设备内进行减压。对涂敷设备内进行减压之后,使输送部件进一步旋转规定角度,将壳体输送到设有微波生成部件的设置部的涂敷位置。在涂敷位置,涂敷设备内被泵减压到规定压力后,利用涂敷部件涂敷零件。涂敷作业完成后,使输送部件进一步旋转规定角度,将壳体输送到卸货位置,从输送部件中取出壳体。
专利文献1:日本特开2004-3027号公报
为了涂敷零件,涂敷设备内被减压到规定压力之后,对零件实施涂敷,在涂敷工序中,需要较多时间的是该减压作业和涂敷处理。
专利文献1的涂敷装置利用1个涂敷设备处理多个零件,所以涂敷设备内的减压时间变长,需要在涂敷位置上的作业时间。与此相比,将壳体搬入输送部件、进行输送的时间与减压作业和涂敷处理相比,能在短时间内进行作业。因此,即使在壳体的供给位置,完成向输送部件输送壳体,在壳体的卸货位置,完成从输送部件搬出壳体,在涂敷位置上的减压作业、涂敷处理仍在继续进行。
其结果、在壳体的供给位置,壳体在输送部件上处于待机状态,作业效率产生浪费。特别是在专利文献1的涂敷装置中,用1个涂敷设备(处理室)对多个零件进行涂敷,因此,减压时间花费更长时间。而且,用1个涂敷设备(处理室)一次对多个零件进行涂敷,因此难以谋求零件的涂敷层高精度且均匀化,装置也有大型化的倾向。
本发明的目的在于提供一种虽然使用现有的容器供给-取出装置、蒸镀单元、真空装置、微波振荡器等,但能够大幅度地缩短对容器的蒸镀时间,装置也不会大型化,涂敷层均匀化的蒸镀装置。
发明内容
本申请的发明人着眼于专利文献1的涂敷装置中的在涂敷位置的作业花费长时间和输送部件被输送到下一步骤之前存在待机时间的问题,在本发明的蒸镀装置中,大幅度地缩短在涂敷(蒸镀)位置上的作业时间,尽可能地缩短待机时间,从而完成了作业效率高的蒸镀装置。
为了达到上述目的,本发明的蒸镀装置包括:支承台,其能间歇旋转;多个蒸镀单元,其具有开闭自如的处理室,其沿周向隔开间隔地配设在该支承台上,利用该支承台的间歇旋转依次位于搬入/搬出区域、预减压区域、蒸镀区域和减压解除区域;被蒸镀体搬入/搬出部件,其用于将蒸镀有薄膜的被蒸镀体自位于该搬入/搬出区域的该蒸镀单元的该处理室内搬出,且将要蒸镀薄膜的被蒸镀体搬入到被搬出了被蒸镀体的该蒸镀单元的该处理室内;预减压部件,其对位于该预减压区域的该蒸镀单元的该处理室内进行排气而使该处理室内成为减压状态;蒸镀部件,其包括:用于对存在于位于该蒸镀区域的该蒸镀单元的该处理室内的被蒸镀体蒸镀薄膜而对该处理室内进行排气使该处理室内成为减压状态的主减压部件;向该处理室内供给薄膜蒸镀所需要的气体的气体供给部件和用于在该处理室内生成电磁波的电磁波生成部件;减压解除部件,其解除位于该减压解除区域的该蒸镀单元的该处理室内的减压状态。
优选上述蒸镀装置的该蒸镀单元包括基台、处理室主体,该处理室主体相对于该基台上下移动,规定关闭该处理室的关闭位置和打开该处理室的打开位置,该蒸镀单元从该搬入/搬出区域向该预减压区域移动中途或位于该预减压区域后,该处理室主体移动到该关闭位置,该蒸镀单元位于该减压解除区域后该处理室主体移动到该打开位置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东洋制罐株式会社,未经东洋制罐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880002642.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于在吸收式冷却器中进行排热的方法和系统
- 下一篇:制备吸收性物品的方法
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





