[实用新型]真空电镀炉用支架无效

专利信息
申请号: 200820081966.2 申请日: 2008-01-09
公开(公告)号: CN201169621Y 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 金梁 申请(专利权)人: 金梁
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321200浙江省武义县熟*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种真空电镀炉用支架,包括有纵向布置的主架,所述主架上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成一排,所述横杆至少为上下两排;上排的横杆上设有上下贯通的通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔与凹槽位于同一直线上。本实用新型通过在主架上固接横杆,上下横杆通过通孔和凹槽配合,使固定有锁体的夹具的主架上下端通过通孔和凹槽定位,操作方便;多根位于同一水平高度的同排横杆呈放射状结构排列,这样可以同时固定多个夹具,空间利用率高;主架上可以根据需要设置多排横杆,相邻排上下横杆互相配合,固定夹具更多。
搜索关键词: 真空 电镀 支架
【主权项】:
1、一种真空电镀炉用支架,其特征在于:包括有纵向布置的主架,所述主架上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成一排,所述横杆至少为上下两排;上排的横杆上设有上下贯通的通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔与凹槽位于同一直线上。
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