[实用新型]真空电镀炉用支架无效
| 申请号： | 200820081966.2 | 申请日： | 2008-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN201169621Y | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 金梁 | 申请（专利权）人： | 金梁 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 321200浙江省武义县熟*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 电镀 支架 | ||
【权利要求书】：
1、一种真空电镀炉用支架，其特征在于：包括有纵向布置的主架，所述主架上设有与之相交固接的横杆，位于同一水平高度的若干横杆组成一排，所述横杆至少为上下两排；
上排的横杆上设有上下贯通的通孔，下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽，所述通孔与凹槽位于同一直线上。
2、如权利要求1所述的真空电镀炉用支架，其特征在于：位于同一水平高度的同排横杆以主架为中心呈放射状结构排列。
3、如权利要求2所述的真空电镀炉用支架，其特征在于：所述横杆为三排，相邻两排配合；其中，中间排横杆上设有与上排横杆通孔配合的凹槽，中间排横杆上还设有上下贯通的通孔，与下排横杆上凹槽配合；所述中间排、下排横杆上的通孔、凹槽错位分布。
4、如权利要求3所述的真空电镀炉用支架，其特征在于：相邻的上下排对应配合的凹槽、通孔位于垂直布置的同一直线上。
5、如权利要求4所述的真空电镀炉用支架，其特征在于：位于同一水平高度的横杆为8根。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金梁，未经金梁许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820081966.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无尘湿擦白板擦
- 下一篇：针灸用针坯的分针机构
- 同类专利
- 专利分类
