[发明专利]有机金属化合物有效
| 申请号： | 200810215480.8 | 申请日： | 2008-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101348900A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | D·V·舍奈－卡特喀特;H·李;王清民 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了包含至少一种甲脒盐配体的杂配基有机金属化合物。这些杂配基有机金属化合物比常规气相沉积前体具有改进的性质。该化合物适于用作含直接液体喷射气相的沉积前体。本发明还提供了使用该化合物或它们在有机溶剂中的溶液通过如ALD和CVD沉积薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 金属 化合物 | ||
【主权项】：
1.在基材上形成含金属的层的方法，该方法包括：在气相沉积反应器中提供一种基材；将气体形式的杂配基甲脒盐化合物传输到所述反应器；然后在基材上沉积含金属的膜；其中杂配基甲脒盐化合物包含金属、甲脒盐配体和阴离子配体。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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