[发明专利]保护层、其制备方法及包括该保护层的等离子体显示板无效
| 申请号： | 200810214874.1 | 申请日： | 2008-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN101383255A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 李玟锡;崔钟书;金奭基;姜东贤;尤里·马图莱维科;金哉赫;徐淳星;秋希伶 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01J17/02 | 分类号： | H01J17/02;H01J17/04;H01J17/49;H01J9/02;H01J9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种保护层及其制造方法和包括这种保护层的等离子体显示板。保护层由氧化镁层和形成在氧化镁层上的电子发射促进材料组成。电子发射促进材料可在氧化镁层上被图案化，或者可被喷射和热处理到氧化镁层的表面上。保护层表现出卓越的电子发射特性而基本不受等离子体的损坏，从而改善了PDP的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 保护层 制备 方法 包括 等离子体 显示 | ||
【主权项】：
1、一种用于气体放电显示装置的保护层，包括:氧化镁层；以及形成在所述氧化镁层的表面上的电子发射促进材料。
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