[发明专利]二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件无效
| 申请号： | 200810210556.8 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101376501A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 铃木峰太;盐川孝绅;山田和广;中山宽之;山口日出树;丸田彩子 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/14 | 分类号： | C01B33/14;C03C17/23;G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本东京都新*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件，其中所述制备方法包括如下步骤：在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，将第一和第二酸性溶胶的混合物施用于基材上，并对其进行干燥。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 凝胶 薄膜 制备 方法 反射 涂层 光学 元件 | ||
【主权项】：
1、一种制备二氧化硅气凝胶薄膜的方法，该方法包括以下步骤：在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，混合所述第一和第二酸性溶胶，将所得混合溶胶施用于基材上，并对其进行干燥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社，未经HOYA株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810210556.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
