[发明专利]光学邻近校正方法有效
| 申请号： | 200810207517.2 | 申请日： | 2008-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101750878A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 张飞 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光学邻近校正方法，包括：测量掩模版上的测试图形，获得所述测试图形的图形参数；根据所述掩模版进行曝光，获得所述曝光形成的图形参数；对所述曝光形成的图形参数进行过滤处理；根据所述曝光形成的图形参数和所述测试图形的图形参数，获得与所述曝光采用的扫描形式对应的校正因子；根据所述校正因子，对原有光学邻近校正模型进行更新，获得与所述曝光采用的扫描形式对应的光学邻近校正模型。本发明根据曝光时采用不同的扫描形式所造成的参数差异，计算校正因子，并对原有的光学邻近校正模型进行更新，获得更新的光学邻近校正模型，从而提高了光学邻近校正的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括：根据掩模版上的测试图形，获得测试图形的图形参数；对所述掩模版进行曝光，获得曝光形成的图形参数；对所述曝光形成的图形参数进行过滤处理；根据所述曝光形成的图形参数和所述测试图形的图形参数，获得与扫描形式对应的校正因子；根据所述校正因子，对原有光学邻近校正模型进行更新，获得与扫描形式对应的光学邻近校正模型。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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