[发明专利]解析版图设计的方法有效
| 申请号： | 200810205389.8 | 申请日： | 2008-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101770529A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 游桂美 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种解析版图设计的方法，包括：获得版图设计文件后，进行图形预检来检测版图设计文件是否存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；若不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则进行图形计算获得刻线图形；将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式。所述解析版图设计的方法能够避免生成的刻线图形不符合原始版图设计。 | ||
| 搜索关键词： | 解析 版图 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种解析版图设计的方法，其特征在于，包括：获得版图设计文件后，进行图形预检来检测版图设计文件是否存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；若不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则进行图形计算获得刻线图形；将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式。
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