[发明专利]解析版图设计的方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，特别涉及解析版图设计的方法。

背景技术

目前，集成电路生产厂一般都是根据设计公司提供的版图设计文件来制 造相应的集成电路产品。这些版图设计文件通常被设计公司以一种特定的文 件格式，例如GDS，提供给这些集成电路生产厂。集成电路生产厂在对于所 获得的版图设计文件进行相关的正确性检查之后，就会从版图设计文件中提 取相关的版图设计，来制造相应的光罩图形。例如，集成电路生产厂会应用 相应的解析工具从版图设计文件中解析出各个器件的刻线(reticle)图形，以 此来制造相应的光罩。

图1所示为目前解析版图设计文件来制造光罩的一种方法示意图。参照 图1所示，当获得版图设计文件后，首先执行步骤s10，进行图形计算，也就 是将版图设计文件中包含的版图设计的信息进行还原，以获得相应的刻线图 形；然后执行步骤s20，将所述刻线图形转变成可以为制造光罩图形的机器识 别的文件格式；接着执行步骤s30，基于获得的刻线图形，制造光罩。

图2所示为应用解析工具进行上述图形计算的一种示意图。参照图2所 示，当解析工具获得版图设计文件后，从起始点(start)开始沿顺时针方向的 路径进行图形计算，并且终止于结束点(end)。由于图形计算的起始点和结 束点为同一点，因而在图形计算过程中经过的路径构成了一个封闭的矩形区 间。则解析工具就会根据该图形计算的结果而生成矩形的刻线图形10。

在图形计算的过程中，上述解析工具通常可以根据以下两种参数进行计 算来生成刻线图形：WINDPATH以及WINDING，其中WINDPATH是指生成 刻线图形时经过的路径，WINDING是指生成刻线图形时所形成的封闭区间。

对于例如路径计算，可以包括两种计算方式：第一种计算方式，在图形 计算的过程中将版图设计文件中包含的每一条可能的路径都予以考虑，其中 一些路径可能形成重叠的图形；第二种计算方式，在图形计算的过程中将版 图设计文件中一些可能导致形成重叠图形的路径进行优化。

而对于例如封闭区间计算，也可以包括两种计算方法：第一种计算方式， 在图形计算的过程中，在路径形成的图形的中心点设置分界线，将经过分界 线的向上路径的值设置为“+1”，将经过分界线的向下路径的值设置为“-1”， 计算所有经过分界线的路径的值的和，若计算得到的和为0，以所计算的路径 形成的封闭区间为刻线图形，若计算得到的和为非0，以所计算的路径形成的 封闭区间为空洞；第二种计算方式，在图形计算的过程中，在路径形成的图 形的中心点设置分界线，将经过分界线的向上路径的值设置为“+1”，将经过 分界线的向下路径的值设置为“-1”，计算所有经过分界线的路径的值的和， 若计算结果为奇数，以所计算的路径形成的封闭区间为刻线图形，若计算结 果为偶数，以所计算的路径形成的封闭区间为空洞(hole)。

而在图形计算的过程中，解析工具也会发现一些不正确的版图设计。参 照图3所示，当解析工具获得版图设计文件后，从起始点(start)开始沿顺时 针方向的路径进行图形计算，并且终止于结束点(end)。由于起始点和结束 点并不是同一点，因而在图形计算过程中经过的路径无法构成一个封闭的区 间。则解析工具也无法根据该图形计算的结果而生成刻线图形，此时解析工 具会报错而给出该版图设计出错的信息。

图3所示的版图设计错误只是一个较易为解析工具发现的错误。另外还 有一些版图设计的错误是解析工具无法判别的。

例如参照图4a所示，当解析工具获得版图设计文件后，从起始点(start) 开始沿顺时针方向的路径进行图形计算，并且终止于结束点(end)。由于起 始点和结束点是同一点，因而在图形计算过程中经过的路径可以构成一个封 闭的区间。然而，在图形计算过程中经过的路径，实际上可以形成两个封闭 区间，封闭区间11以及封闭区间11中的封闭区间12。因此，解析工具根据 该图形计算的结果将可能生成两种不同的刻线图形，即按上述的路径或封闭 区间的两种计算方式将得到不同的刻线图形。

以路径计算为例，参照图4b所示，解析工具可以选择包含重叠的情况， 而生成刻线图形13；而参照图4c所示，解析工具也可以选择优化重叠的情况， 而生成刻线图形14。