[发明专利]解析版图设计的方法

权利要求书

1.一种解析版图设计的方法，其特征在于，包括：

获得版图设计文件后，进行图形预检来检测版图设计文件是否存在使得 解析工具生成多种刻线图形的版图设计；

若不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则进行图形计算 获得刻线图形；

将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式;

所述图形预检包括：

以路径计算的第一种计算方式进行图形计算获得第一刻线图形，以路径 计算的第二种计算方式进行图形计算获得第二刻线图形，或者，以封闭区间 计算的第一种计算方式进行图形计算获得第一刻线图形，以封闭区间计算的 第二种计算方式进行图形计算获得第二刻线图形；

比较第一刻线图形和第二刻线图形；

若第一刻线图形和第二刻线图形相同，则所述版图设计文件中不存在使 得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；

若第一刻线图形和第二刻线图形不相同，则所述版图设计文件中存在使 得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。

2.如权利要求1所述的解析版图设计的方法，其特征在于，还包括：

若存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则生成提醒信息。

3.如权利要求1所述的解析版图设计的方法，其特征在于，还包括：

给出第一刻线图形和第二刻线图形的差异部分。

4.如权利要求1所述的解析版图设计的方法，其特征在于，所述比较第一刻 线图形和第二刻线图形包括：对第一刻线图形和第二刻线图形进行异或计算。