[发明专利]点结构体、磁记录介质及其制造方法

摘要

本发明提供一种点结构体、磁记录介质及其制造方法。在结晶性良好的点结构体、以及使用了图案化介质的磁记录介质中，形成结晶性良好的磁记录点，而提供高功能、高可靠性的磁记录装置。在具有连续的第1层和离散的第2层的点结构体中，在具有晶体结构的薄膜上使用光致抗蚀剂形成槽部，在该槽部中通过外延生长来埋入与上述薄膜的材料相同的材料而形成第1层，在通过去除上述光致抗蚀剂而形成的槽部中，通过外延生长埋入与上述薄膜的材料不同的材料而形成第2层。在磁记录介质中，在基底层上使用光致抗蚀剂形成槽部，在该槽部中通过外延生长埋入与基底层材料相同的膜。之后，在通过在溶液中去除光致抗蚀剂而形成的槽部中，通过外延生长埋入记录层的磁性膜。

主权项

1. 一种点结构体，对于连续的第1层配置有离散的第2层，其特征在于，上述第1层具备具有晶体结构的薄膜、和在上述薄膜上利用光致抗蚀剂形成的1个或多个沟槽部中埋入与上述薄膜的材料相同的材料而一体形成的结构，在通过去除上述光致抗蚀剂而形成的沟槽部中埋入与上述薄膜的材料不同的材料而形成了上述第2层。