[发明专利]半导体器件、半导体器件的制造方法及其测试方法有效
| 申请号: | 200810109378.X | 申请日: | 2008-06-02 |
| 公开(公告)号: | CN101504923A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
| 发明(设计)人: | 滨田宽哉;田中太助;清藤彰;中岛善朗 | 申请(专利权)人: | 株式会社瑞萨科技 |
| 主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/66;G11C29/00;G01R31/28 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 王茂华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 提供了一种用于缩小尺寸的SiP或PoP的半导体器件及其制造方法,以及适于SiP和PoP的测试方法,其中实现了系统的简化及其效率的提高。挑选出确定为非缺陷的包括第一存储器电路的第一半导体器件和确定为非缺陷的包括第二存储器电路和根据程序执行信号处理的信号处理电路的第二半导体器件。将所挑选出的器件组装为一体化半导体器件。在测试板上,供给与半导体器件的实际操作等效的时钟信号。将用于对第一存储器电路进行性能测试的测试程序从测试器写入到第二半导体器件的第二存储器电路。在信号处理电路中,对应于时钟信号,根据写入的测试程序对第一存储器电路进行性能测试。将该性能测试的故障/非故障确定的结果输出给测试器。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体器件 制造 方法 及其 测试 | ||
【主权项】:
1. 一种制造半导体器件的方法,包括:第1工艺,用于形成具有第一存储器电路的第一半导体器件;第2工艺,用于对所述第一半导体器件进行电测试,以便挑选出非缺陷项;第3工艺,用于形成具有信号处理电路和第二存储器电路的第二半导体器件,所述信号处理电路根据程序执行信号处理;第4工艺,用于对所述第二半导体器件的信号处理电路和第二存储器电路进行电测试,以便挑选出非缺陷项;第5工艺,用于一体化地配置在所述第2工艺中挑选出的所述第一半导体器件和在所述第4工艺中挑选出的所述第二半导体器件,并将它们各自的对应端子耦合在一起;以及第6工艺,用于将在所述第5工艺中一体化配置的半导体器件安装在测试板之上,并进行电测试以便确定该半导体器件的故障/非故障,其中所述测试板设置有振荡电路,所述振荡电路向所述半导体器件共同地供给与所述半导体器件的实际操作等效的时钟信号,以及其中所述第6工艺包括:第一操作,用于将用于对所述第一半导体器件的第一存储器电路进行性能测试的测试程序从测试器写入到所述第二半导体器件的第二存储器电路;第二操作,用于对应于所述时钟信号,根据写入到所述第二存储器电路的测试程序,通过所述第二半导体器件的信号处理电路对所述第一半导体器件的第一存储器电路进行性能测试;以及第三操作,用于将所述第二操作中的故障/非故障确定的结果输出到所述测试器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社瑞萨科技,未经株式会社瑞萨科技许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810109378.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:焊垫结构
- 下一篇:用于制造半导体器件的方法及设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





