[发明专利]半导体器件、半导体器件的制造方法及其测试方法有效
| 申请号: | 200810109378.X | 申请日: | 2008-06-02 |
| 公开(公告)号: | CN101504923A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
| 发明(设计)人: | 滨田宽哉;田中太助;清藤彰;中岛善朗 | 申请(专利权)人: | 株式会社瑞萨科技 |
| 主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/66;G11C29/00;G01R31/28 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 王茂华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体器件 制造 方法 及其 测试 | ||
1. 一种制造半导体器件的方法,包括:
第1工艺,用于形成具有第一存储器电路的第一半导体器件;
第2工艺,用于对所述第一半导体器件进行电测试,以便挑选出 非缺陷项;
第3工艺,用于形成具有信号处理电路和第二存储器电路的第二 半导体器件,所述信号处理电路根据程序执行信号处理;
第4工艺,用于对所述第二半导体器件的信号处理电路和第二存 储器电路进行电测试,以便挑选出非缺陷项;
第5工艺,用于一体化地配置在所述第2工艺中挑选出的所述第 一半导体器件和在所述第4工艺中挑选出的所述第二半导体器件, 并将它们各自的对应端子耦合在一起;以及
第6工艺,用于将在所述第5工艺中一体化配置的半导体器件安 装在测试板之上,并进行电测试以便确定该半导体器件的故障/非故 障,
其中所述测试板设置有振荡电路,所述振荡电路向所述半导体器 件共同地供给与所述半导体器件的实际操作等效的时钟信号,以及
其中所述第6工艺包括:
第一操作,用于将用于对所述第一半导体器件的第一存储器电路 进行性能测试的测试程序从测试器写入到所述第二半导体器件的第 二存储器电路;
第二操作,用于对应于所述时钟信号,根据写入到所述第二存储 器电路的测试程序,通过所述第二半导体器件的信号处理电路对所 述第一半导体器件的第一存储器电路进行性能测试;以及
第三操作,用于将所述第二操作中的故障/非故障确定的结果输 出到所述测试器。
2. 根据权利要求1所述的制造半导体器件的方法,
其中所述第1工艺包括第1-1工艺,在第一晶片之上形成多个第 一存储器电路,
其中所述第2工艺包括:
第2-1工艺,对所述第一晶片之上形成的每一个存储器电路进行 电测试以便确定故障/非故障;和
第2-2工艺,将所述第一晶片之上形成的第一存储器电路分成各 个第一半导体芯片,并挑选出作为所述第2-1工艺的确定结果确定为 非缺陷的第一半导体芯片,
其中所述第3工艺包括第3-1工艺,在第二晶片之上形成多个半 导体电路,该半导体电路包括第二存储器电路和根据程序执行信号 处理的信号处理电路,
其中所述第4工艺包括:
第4-1工艺,对所述第二晶片之上形成的每一个半导体电路进行 电测试,以便确定故障/非故障;和
第4-2工艺,将所述第二晶片之上形成的半导体电路分成各个第 二半导体芯片,并挑选出作为所述第4-1工艺的确定结果确定为非缺 陷的第二半导体芯片,以及
其中所述第5工艺包括第5-1工艺,在公共衬底之上安装所述第 2-2工艺中挑选为非缺陷的第一半导体芯片和所述第4-2工艺中挑选 为非缺陷的第二半导体芯片,以便在一个封装中一体化地配置半导 体器件。
3. 根据权利要求2所述的制造半导体器件的方法,
其中所述第二半导体芯片包括自诊断电路,以及
其中所述第6工艺中的第一操作包括:
第一步骤,使所述第二半导体芯片处于复位保持状态,并将能够 启动测试程序的输入的程序从所述测试器写入到所述自诊断电路中 设置的存储器电路;以及
第二步骤,根据所述程序将所述测试程序写入到所述第二存储器 电路。
4. 根据权利要求2所述的制造半导体器件的方法,
其中所述第6工艺中使用的测试板具有多个插槽,在所述多个插 槽中可以安装多个半导体器件,以及
其中将所述振荡电路中生成的时钟共同地供给到附接于所述插 槽的所述半导体器件。
5. 根据权利要求3所述的制造半导体器件的方法,
其中所述第二半导体芯片包括遵循JTAG标准的用户调试接口 电路,以及
其中在所述第6工艺中,使用所述用户调试接口电路实现与所述 测试器的耦合,并执行所述第一操作中的测试程序的输入以及所述 第三操作中的确定结果的输出。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





