[发明专利]光波导及其形成方法有效
| 申请号： | 200810091917.1 | 申请日： | 2004-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN101308229A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 长木浩司;森哲也;R·拉维奇兰;藤原诚;高浜启造;渡边启;野中启孝;大竹有美子;A·拜尔;L·罗德斯;D·阿姆罗梭;松山睦宏 | 申请（专利权）人： | 住友电木株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/138 | 分类号： | G02B6/138;G02B6/122 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的实施方案提供波导结构体和形成这种结构体的方法，其中确定核芯和侧向邻接的覆盖区域。本发明的一些实施方案提供其中核芯区域总的来说被侧向邻接的覆盖区域和覆盖层围绕的波导结构体和形成这种结构体的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成光波导结构的方法，该方法包括：提供第一材料层，所述第一材料层具有第一折射指数且包括聚合物基体、与该聚合物基体相容的至少一种单体、前催化剂和助催化剂，其中聚合物基体和所述至少一种单体具有不同的折射指数，助催化剂适合于在曝光于光化辐射下时将前催化剂转化成潜活性形式，且潜活性形式一旦加热到第一温度，则可转化成活性形式；选择曝光第一材料层的第一部分于光化辐射下；和第一次加热第一材料层到第一温度，从而使第一折射指数变为第二折射指数。
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