[发明专利]光电二极管以及使用了该光电二极管的光电IC有效
申请号: | 200810085516.5 | 申请日: | 2008-03-10 |
公开(公告)号: | CN101271934A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 三浦规之 | 申请(专利权)人: | 冲电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/102 | 分类号: | H01L31/102;H01L27/144 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 雒运朴;李伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种光电二极管以及使用了该光电二极管的光电IC,其能够避免受硅半导体层与绝缘层的界面处的反射的影响,准确地检测出紫外线的总量。该光电二极管具有:形成在绝缘层上的第1硅半导体层;形成在绝缘层上的具有3nm以上、36nm以下的厚度的第2硅半导体层;形成于上述第2硅半导体层、低浓度扩散了P型和N型中任意一型杂质的低浓度扩散层;形成于第1硅半导体层、高浓度扩散了P型杂质的P型高浓度扩散层;以及隔着低浓度扩散层与该P型高浓度扩散层相对的、高浓度扩散了N型杂质的N型高浓度扩散层。 | ||
搜索关键词: | 光电二极管 以及 使用 光电 ic | ||
【主权项】:
1.一种光电二极管,其特征在于,具有:形成在绝缘层上的第1硅半导体层;第2硅半导体层,形成在上述绝缘层上,具有3nm以上、36nm以下的厚度;低浓度扩散层,形成于上述第2硅半导体层,低浓度扩散了P型和N型中任意一型的杂质;P型高浓度扩散层,形成于上述第1硅半导体层,高浓度扩散了P型杂质;以及N型高浓度扩散层,隔着上述低浓度扩散层与该P型高浓度扩散层相对,高浓度扩散了N型杂质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于冲电气工业株式会社,未经冲电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810085516.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的