[发明专利]光电二极管以及使用了该光电二极管的光电IC有效

专利信息
申请号: 200810085516.5 申请日: 2008-03-10
公开(公告)号: CN101271934A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 三浦规之 申请(专利权)人: 冲电气工业株式会社
主分类号: H01L31/102 分类号: H01L31/102;H01L27/144
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种光电二极管以及使用了该光电二极管的光电IC,其能够避免受硅半导体层与绝缘层的界面处的反射的影响,准确地检测出紫外线的总量。该光电二极管具有:形成在绝缘层上的第1硅半导体层;形成在绝缘层上的具有3nm以上、36nm以下的厚度的第2硅半导体层;形成于上述第2硅半导体层、低浓度扩散了P型和N型中任意一型杂质的低浓度扩散层;形成于第1硅半导体层、高浓度扩散了P型杂质的P型高浓度扩散层;以及隔着低浓度扩散层与该P型高浓度扩散层相对的、高浓度扩散了N型杂质的N型高浓度扩散层。
搜索关键词: 光电二极管 以及 使用 光电 ic
【主权项】:
1.一种光电二极管,其特征在于,具有:形成在绝缘层上的第1硅半导体层;第2硅半导体层,形成在上述绝缘层上,具有3nm以上、36nm以下的厚度;低浓度扩散层,形成于上述第2硅半导体层,低浓度扩散了P型和N型中任意一型的杂质;P型高浓度扩散层,形成于上述第1硅半导体层,高浓度扩散了P型杂质;以及N型高浓度扩散层,隔着上述低浓度扩散层与该P型高浓度扩散层相对,高浓度扩散了N型杂质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于冲电气工业株式会社,未经冲电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810085516.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top