[发明专利]等离子体处理设备、其气体分配装置及工艺气体提供方法有效
| 申请号： | 200810056178.2 | 申请日： | 2008-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101489344A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 徐亚伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H05H1/44;H01L21/205;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 100016北京市朝*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极的支撑板，以及固定连接于所述支撑板下方的喷头电极；所述喷头电极设有多个均匀分布的通气单元，所述通气单元包括至少两个轴向贯通所述喷头电极的通气孔；同一所述通气单元中各通气孔的气流喷出方向不同。由于每一通气单元中各通气孔的气流喷射方向均不相同，因此同一通气单元中各通气孔中流出的工艺气体容易相互扰动，进而形成紊流，工艺气体因此会迅速向所述通气孔之间的空间扩散。所以，工艺气体的均匀度可以得到显著地改善。本发明还公开了一种等离子体处理设备及其工艺气体提供方法。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 气体 分配 装置 工艺 提供 方法 | ||
【主权项】：
1、一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极的支撑板(5)，以及固定连接于所述支撑板下方的喷头电极(3)；其特征在于，所述喷头电极(3)设有多个均匀分布的通气单元，所述通气单元包括至少两个轴向贯通所述喷头电极(3)的通气孔(31)；同一所述通气单元中各通气孔(31)的气流喷出方向不同。
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