[发明专利]阵列基板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810037509.8 申请日: 2008-05-16
公开(公告)号: CN101582430A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 李小和 申请(专利权)人: 上海广电NEC液晶显示器有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1362
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 薛 琦;朱水平
地址: 201108上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制造方法,该阵列基板包括一玻璃基板以及依次位于该玻璃基板上的第一金属层图形、第一绝缘层、非晶层图形、氮离子非晶层、第二金属层图形、第二绝缘层和氧化物导电层图形,该第一金属层图形作为一存储电容的第一电极,其特征在于,该非晶层图形通过一接触孔连接该氧化物导电层图形作为存储电容的第二电极。本发明阵列基板及其制造方法减小了存储电容的第二电极和透光区的段差,解决在工艺制造中带来的摩擦工艺不良以及信赖性问题,并提升对比度。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种阵列基板,其包括一玻璃基板以及依次位于该玻璃基板上的第一金属层图形、第一绝缘层、非晶层图形、氮离子非晶层、第二金属层图形、第二绝缘层和氧化物导电层图形,该第一金属层图形作为一存储电容的第一电极,其特征在于,该非晶层图形通过一接触孔连接该氧化物导电层图形作为存储电容的第二电极。
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