[发明专利]应用膜分离技术对超细二氧化硅洗涤提纯的新工艺无效
| 申请号： | 200810030579.0 | 申请日： | 2008-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN101224889A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 张宇平;蔡有兴;易琳琪;李舟;李浩 | 申请（专利权）人： | 湖南金马硅业有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410300*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 应用膜分离技术对超细二氧化硅洗涤提纯的新工艺，本发明公开了一种涉及超细二氧化硅粉体的高效洗涤提纯和固液分离浓缩新方法，有效改善了传统洗涤方法如板框压滤机、离心机洗涤过程周期长、效率低、产品质量效果差的现象。该工艺基于多孔陶瓷介质的膜过滤效应而进行的超细物质分离技术，采用高效的“错流”过滤方式，使超细二氧化硅粉体悬浮液通过充分洗涤、固液分离而实现粉体提纯的目的，是目前超细二氧化硅粉体实现高效洗涤和提纯的理想方法。 | ||
| 搜索关键词： | 应用 分离 技术 二氧化硅 洗涤 提纯 新工艺 | ||
【主权项】：
1.一种涉及超细二氧化硅粉体的高效洗涤提纯和固液分离浓缩新方法，其特征是超细二氧化硅粉体经过酸处理后，形成浓度不高于30％，pH小于7，包含有SiO2颗粒以及H+、SO4 2-、Fe2+、Fe3+、Cl-等离子性物质的粉体悬浮液，加入4倍体积的H2O稀释后，在小于1MPa的压力下，通过无机陶瓷膜将溶液中的离子性物质排出膜外，再加入2倍体积的去离子水进行洗涤、纯化，离子性杂质逐渐被全部排出，超细二氧化硅颗粒被保留，溶液的pH达到7，电导率小于10μS/cm，浓缩后其质量百分比浓度也提高到40％。
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